溅射镀膜实验报告

第一篇：溅射镀膜实验报告

篇一：磁控溅射镀膜实验报告近代物理实验 磁控溅射镀膜

宋爽 核12 2011011723 指导老师：王合英 2013-5-24 【摘要】

本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射速率的关系，并在载玻片上镀上了铜膜。

关键词：磁控溅射镀膜，辉光放电，溅射速率，溅射气压、溅射功率 一． 前言

当今信息社会，众多通讯机器的心脏部分，离不开以薄膜技术为基础而制作的元器件、电子回路、集成电路等。磁控溅射镀膜是目前应用最为广泛的薄膜制备方法之一。

磁控溅射技术是在普通的溅射技术基础上发展起来的。溅射是近年来在真空镀膜中得到广泛应用的一种

成膜方法。

溅射法是利用高能离子（电场加速正离子，由电极间工作气体在强电场作用下电离产生）高速冲击负极溅射材料表面，发生碰撞。由于高能离子的能量大于靶材原子表面结合能，从而使靶材表面的原子或分子等得到入射离子的能量，逐渐溢出表面形成溅射。溅射镀膜就是基于荷能离子轰击靶材时的溅射效应，整个过程都是建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。

而磁控溅射技术工作原理如图1所示： 图1 磁控溅射原理

就是在电子运动过程中，用磁场和电场同时作用于电子，磁场b垂直于电场e，靶极表面附近的电子在互为正交的电、磁场作用下，受到洛仑兹力作用而沿螺旋路径运动，这就延长了电子在空间运动的时间，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地利用电子的能量，并能尽量避免高能粒子直接轰击样品表面。磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点，故又称为高速低温溅射技术。

二、实验

图2 高真空磁控溅射镀膜机真空室结构示意图 按各部分的功能分类，该设备主要由真空系统、溅射镀膜系统、测量及控制系统三部分组成：

1、真空系统及其测量

真空系统为溅射镀膜提供一个高真空的薄膜生长环境，本底真空度的高低也直接影响薄膜的结构和性能，是薄膜制备最基本和重要的条件。真空度底，镀膜室内残余气体分子多，薄膜受残余气体分子的影响，使其性能变差。常用真空获取与测量设备：(1)旋片式机械真空泵

机械真空泵是通常用来获得低真空的设备或充当其他高真空泵的前级泵。(2)涡轮分子泵

分子泵是一种获取高真空的常用设备，作为本实验二级泵。(3)真空的测量---复合真空计

本实验采用程控复合真空计测量真空室的真空度，高、低真空分别用电离规管和热偶规管测量，分别显示于两个窗口便于实验。

2、溅射镀膜及控制、测量系统（1）磁控溅射靶（2）多功能基片架（3）溅射气压气体的测量及控制（4）薄膜厚度的在线监测 本实验采用石英晶体振荡法测量薄膜厚度和淀积速率。df???2n??m ? ?dx 此式即为表示振荡频率变化与薄膜质量膜厚之间关系的基本公式。实验目的： 1.掌握真空的获得与测量技术

2.了解磁控溅射镀膜的工作原理，探究仪器参数对镀膜过程的影响。3.运用磁控溅射镀膜技术在玻璃载玻片上镀上铜膜。注意事项：

实验时基片的选取很重要，本实验选用普通的玻璃载玻片，镀膜前需用丙酮和乙醇对基片进行仔细的清洗。热处理影响镀膜的质量，本实验在160℃下进行镀膜，使吸附原子的动能随着增大，跨越表面势垒的几率增多，容易结晶化，并使薄膜缺陷减少，薄膜内应力也相应减小。同时也可以除去基片上残留的水蒸气。对真空室加热时，需在达到指定温度后保持30分钟再进行镀膜，这样一方面使基片温度达到设置温度并尽可能稳定，一方面使真空室在恒定温度下继续抽气，使杂质气体的浓度尽可能低，减少镀膜时的干扰。对于不同的靶材应选用不同的磁控靶，如nife这样软磁材料的靶，即外回路磁阻很小时，如果采用永磁靶这样磁阻较大的靶，绝大部分磁力线都将被屏蔽，而在靶面上方空间不可能形成足够的平行磁场（漏磁很小）。这样就破坏了磁控模式运行的前提条件，故nife应用电磁靶溅射。而如cu这样的抗磁材料，则电磁靶和永磁靶都可使用，而电磁靶产生的磁场强，可更好的延长电子在氩气中的运动时间，利于起辉放电，故实验选用电磁靶。实验结

泵抽气速率，气压开始下降且到达指定温度后，温度基本不变，下降速率越来越快。

2、镀膜速率与溅射气压的关系

用30秒内膜厚度的增长量来度量溅射速率，在溅射电流i=0.1a，靶磁场电流i=1.5a的条件下，得到图像：溅 射气压和溅射速率的关系 溅射速率(a/min)束后，应等待真空室冷却后，再放气取出样品，否则会造成薄膜氧化，影响其性能。三．数据记录与分析讨论

1.基片加热过程中真空度的变化 基片 5 加热时温度与真空度的变化关系 溅射气压(pa)气压(0.001pa)4 图4 溅射气压和溅射速率的关系

由图可知，在一定范围内，溅射气压越大，溅射速率越 3 小。分析： 20 70 140 温 度(℃)气压越大，真空室内氩气分子密度就越大，镀膜材 料分子运动的平均自由程就越小，即材料分子在飞往基 片过程中更容易与氩气分子碰撞，导致到达基片的材料分子减少，故气压大溅射速率低。

3、镀膜速率与溅射功率的关系：

用60秒内膜厚度的增长量来度量溅射速率，溅射气压p=1.3pa，靶磁场电流i=1.5a 得到图像：

图3 基片加热时温度与真空度的变化关系 由图可知，随着温度上升，气压迅速升高，随后气压降低至不变，至温度稳定后，气压持续降低。基片暴露在空气中会吸附气体分子（主要是水蒸气），在基片加热的过程中这些吸附的分子会迅速释放出来导致迅速气压上升，这就解释了曲线前面的上升段。当气体大部分释放完后，气体释放速率降低，并且气体温度上升与真空泵抽气平衡，气压基本不变，温度上升至接近指定温度时，温度上升速率减慢，低于真空)nim/a(率速射溅溅射功率(w)图5 溅射功率和溅射速率的关系 y=6.635x，r=0.995 由图可知，在一定范围内，溅射电流（溅射功率）越大，溅射速率越大，且成线性关系。分析：

溅射电流的提高，轰击靶材料的氩离子的浓度提高，就会有更多的靶材料被溅射出来；另外，溅射粒子的能量也提高，使薄膜与基片的附着力增加，加快了薄膜的形成速率。而讲义上说溅射速率与溅射功率基本成正比关系，实验结果与此符合得较好。需要注意的是，溅射时电流与电压之间的关系遵循公式：i=kvn，而式中的参数k、n与气压、靶材料、磁场和电场有关，实验中注意到靶磁场的增大会使溅射电压减小，因此猜想靶磁场增大会使k增大。对于靶材蚀刻跑道的讨论：

由于试验用的铜靶使用时间很长，靶面上留下了很深的蚀刻轨道。蚀刻跑道形状如图6，截面如图8(b)所示，这是由于沿靶面一圆周上径向有一如图7的镜像磁场，使电子被约束在跑道宽度内，假设在 x = ±a 处是临界磁约束点, 即电子在此区域内被约束来回反射。但能被约束的电子并不都是在 x = ±a 处才反射, 也

即是说电子的横向宏观振荡半径并不都是a, 而是 0 ～ a 内均可发生, 因此在x = ±a 区域内各处电子 的浓度并不相同, 显然 x = 0 处是所有受约束的电子

运动的必经之路, 浓度最大, 越往±a 处能到达的电子数目越少, 其浓度也就越小(但不能认为该处的浓度

为零), 可以近似认为符合高斯分布,如图 8(a)所示。随着刻蚀的加深, 靶面下降, 更强的磁力线露出靶面

(需要说明的是, 磁力线本身的分布并不因溅射而有所改变), 约束力增强, 临界约束半径减小即约束区域变窄, 于是溅射区域也随之变窄。如此长期作用下去, 刻蚀跑道的形状就自然是宽度连续收缩,中心深度加剧的倒高斯分布, 如图 8(b)所示。

图6蚀刻跑道

图7镜像场磁力线分布

要几种真空泵组合使用，用于工业化生产。关于溅射功率和溅射气压对溅射速率影响的讨论： 虽然分析的结果是提高靶的溅射功率能够提高溅射速率，但是查阅资料表明，如果溅射功率过大，靶的温度将过高，甚至可能靶开裂，升华和熔化。因此，溅射靶的力学性质和导热性能是限制提高溅射速

图8 跑道断面的电子浓度分布（a）及刻蚀断面（b）示意图 抽真空装置的比较：

实验时老师问到上次做电子衍射的油扩散泵原理，油扩散泵与涡轮分子泵都是用来抽高真空的真空泵，但是原理不同。

油扩散泵是利用气体的扩散现象实现排气作用，当扩散泵受到电炉加热时会产生大量蒸汽，蒸汽流沿导管传输到上部，经喷嘴向下喷出。在射流界面两边，被抽气体与界面内气体存在很大浓度差，从而使被抽容器的气体分子源源不断地越过界面，扩散进入射流，而被带至与机械泵连接的管道中。射流在往下运动过程中，碰到有冷却水管冷却的泵壁，油分子被冷凝，沿着泵壁流回蒸发器继续循环使用，即可获得较高的真空度。

在两次实验中接触了三种真空泵。真空泵是用来获得真空的器械，按照泵的抽气速率和抽气方式分为机械泵，分子泵，扩散泵等。实际使用中应该根据对真空度的不同要求，选择合适的真空泵，有时可能需九．结论

本实验成功在两块玻璃基底上，用磁控溅射方法得到铜薄膜。通过本实验，了解并掌握了磁控溅射镀膜机的操作。学习了关于真空的获得、磁控溅射以及镀膜的相关知识。并且得到了在一定范围内，溅射气压增大溅射速率减小，以及溅射功率与溅射速率成正比的结论。通过本次实验，发现并思考了实验中出现的问题，领悟了物理

率的重要因素。为了提高溅射速率，应该将基片尽可能靠近溅射源，但必须保证稳定的异常辉光放电。

而对于溅射气体分压和溅射速率的关系，实验中表明在一定范围内溅射气压越大，溅射速率越小。而我查找资料后，发现在低气压范围（0.1-0.25pa），溅射气压和溅射速率却是正相关的，这是由于气压升高，气体分子数增多，电离产生的轰击离子增多，靶材溅射出的原子增多，并且在低气压范围内，气体分子对溅射原子的阻挡作用不明显，因此呈现出溅射气压和溅射速率的正相关关系

因此，在实际镀膜中，应该综合考虑溅射功率和溅射气压对溅射速率的影响，选择合适的溅射功率和溅射气压，使得镀膜质量达到最佳效果。篇二：真空镀膜及材料生长实验报告 真空镀膜及材料生长实验报告

关键词：真空，直流溅射，镀膜，金属薄膜吸光度，金属薄膜结构和形貌

一、实验原理 1.真空简介

“真空”是指低于一个大气压的气体状态。在真空技术中，以“真空度”来表示气体的稀薄程度，真空度越高，气体压强越低。通常气体的真空度直接用气体的压强来表示，常用单位为帕斯卡（pa）或毫米汞柱（mmhg）——简称乇（torr），它们之间的关系为： 1毫米汞柱（mmhg）=1乇（torr）=133帕斯卡（pa）在物理学中，真空度分为粗真空（105 ～102 pa），低真空（102 ～10-2 pa），高真空（10-2 ～10-6 pa），超高真空（10-6 ～10-10 pa）和极高真空（<10-10 pa）。2.直流溅射镀膜技术

所谓“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶材），使固体表面的原子（或分子）从表面射出的现象。这些从固体表面射出的粒子大多呈原子状态，通常称为被溅射原子。常用的轰击靶材的荷能粒子为惰性气体离子（如氩离子）和快速中性粒子，它们又被称为溅射粒子。溅射粒子轰击靶材，从而使靶材表面的原子离开靶材表面成为被溅射原子，被溅射原子沉积到衬底上就形成了薄膜。所以这种薄膜制备技术又称为溅射法。溅射法基于荷能粒子轰击靶材时的溅射效应，而整个溅射过程都是建立在辉光放电的基础之上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所用的辉光放电方式有所不同。直流溅射法利用的是直流电压产生的辉光放电；射频溅射法是利用射频电磁场产生的辉光放电；磁控溅射法是利用平行于靶材表面的磁场控制下的辉光放电。

简单的直流二极溅射法可以镀金属、合金以及一些低导电性的材料，但是不能直接镀绝缘材料。本实验采用直流溅射法制备金属薄膜，其相关设备示意图如图所示，实验中需要用机械泵对镀膜室抽真空（提供几帕的真空度即可）后，方可进行镀膜。

3.薄膜的形成过程薄膜的形成过程直接影响薄膜的结构及它最终的性能。薄膜的形成划分为两个不同的阶段，即新核的形成和薄膜的生长过程。新核的形成一般分为自发成核和非自发成核。前者是指整个形核过程完全是在相变自由能的推动下进行的，后者是指除了有相变自由能做推动力之外，还有其它因素帮助新相核心生成的作用。薄膜的生长过程一般有三种模式：

一是层状生长（frank-vander merwe）模式。当被沉积物质与衬底之间浸润性很好时，被沉积物质的原子更倾向于与衬底原子键合。因此，薄膜从形核阶段开始即采取二维扩展模式，沿衬底表面铺开。在随后的过程中薄膜生长将一直保持这种层状生长模式。二是岛状生长（volmer-weber）模式。被沉积物质的原子或分子更倾向于自己相互键合起来，而避免与衬底原子键合，即被沉积物质与衬底之间的浸润性较差；金属在非金属衬底上生长大多采取这种模式。对很多薄膜与衬底的组合来说，只要沉积温度足够高，沉积的原子具有一定的扩散能力，薄膜的生长就表现为岛状生长模式。

三是层状-岛状（stranski-krastanov）生长模式。在层状-岛状中间生长模式中，在最开始一两个原子层厚度的层状生长之后，生长模式转化为岛状模式。导致这种模式转变的物理机制比较复杂，但根本原因可以归结为薄膜生长过程中各种能量的相互消长。4.透射率、吸光度与吸收系数之间的关系

透射率t是指透射光强与入射光强的比值。吸光度（absorbance）a是指光线通过溶液或某一物质前的入射光强度与该光线通过溶液或物质后的透射光强度比值的对数。即： a?lg 固体的光吸收规律 1t i?i0exp???x? i和i0分别为透射光与入射光的光强，x为光的传播距离。根据上述规律，a正比于吸收系数?。

二、实验内容 1.实验仪器

小型直流溅射仪（配机械泵），紫外可见分光光度计，超声波清洗器，干燥箱，衬底（基片）材料，酒精，去离子水等。2.实验内容

? 根据提供的设备和材料，制定清洗衬底的方案。

? 采用小型直流溅射仪，在清洗干净的衬底上制备金属铜薄膜和银薄膜。

? 运用紫外分光光度计，测量金属薄膜的吸光度/透射率，分析与制备工艺之间的联系。3.实验步骤 ①清洗样品。

将玻片用玻璃刀划取适当的大小，然后取一个干净的烧杯，往里面倒入适量的酒精。接下来放入超声波清洗器中清洗三分钟，之后用镊子取出玻片，然后放入蒸发皿中烘干。

②开始制作。? 顺时针方向转动电源开关，关闭放气阀门，溅射仪开始工作，抽气泵开始抽气。

? 等到真空表头指示优于2e-1mbar之后，在不同的真空压强下对试样室内的样品进行溅 射，溅射电流不大于20ma，然后再使用定时器控制溅射时间。? 等到溅射完成后，将电流旋钮逆时针调至最小，将电源旋钮逆时针调至最小，由于仪器 本身的原因，我们组做实验的时候电流无法读出示数，所以固定一个电流的位置不动。制备的样品参数如下：

样品1： 溅射时间：300s 气压2.0e-1mbar 样品2： 溅射时间：300s 气压1.2e-1mbar 样品3： 溅射时间：200s 气压2.0e-1mbar 样品4： 溅射时间：200s 气压1.2e-1mbar 样品5： 溅射时间：300s 气压2.0e-1mbar（由于无法调节电流，所以这个样品相对之前的样品电流相对小，没有具体大小）③将制作完成的样品放入原子力显微镜与紫外分光光度计测量样品表面形貌与透射率。（这部分实验由于上学期做过，具体操作不做阐述）

三、数据分析

由于自己组的实验数据没有保存，所以这里用的是其他组的数据进行分析。样品1 形貌与三维图形为：分析得面粗糙度为：8.13nm 样品2 形貌与三维图形：分析得：粗糙度为17.4nm 样品3形貌与三维图形：分析得：粗糙度为4.05nm 样品4 形貌与三维图形：分析得：粗糙度为9.6nm 样品5 形貌与三维图形：分析得：粗糙度为4.97nm篇三：真空镀膜实验报告

真空的获得和真空镀膜预习报告

【摘 要】 通过本实验，我们温习了真空的特点、获得和测量，学习掌握真空蒸发镀膜的基本原理，通过热蒸发法用金属锡为材料对基底玻片表面进行了镀膜。【关键词】真空 真空镀膜蒸发法 【引 言】

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源的作用。1950年后，真空获得和测量取得的进展推动了真空镀膜技术迅速实现产业化，使薄膜技术获得腾飞。20世纪70年代各种真空镀膜技术的应用全面实现产业化。目前真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等领域。它在高技术产业化的发展中展现出了诱人的市场前景，被誉为最具有发展前途的重要技术之

一。本次实验，我们在真空的获得和测量的基础上，进一步学习掌握了真空热蒸发法镀膜，大致掌握其技术要领，分析镀膜情况。

【实验原理】

真空镀膜是在真空室中进行的，当需要蒸发的材料加热到一定温度时，材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能。于是大量分子或原子从液态或直接从固态汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时，就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。要使玻璃表面在真空室中镀上一层厚度均匀的膜，为此对玻璃的表面就有一定的要求，比如清洁，没有油污等。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、-2沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10pa，对于蒸发源与被-5镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（10pa）。1.1镀膜方式

真空镀膜按其方式不同可分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和现代发展起来的离子镀膜。这里用真空蒸发镀膜技术。蒸发镀膜是通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面。这种方法最早由m.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

在一定的温度下，每种液体或固体都有特定的平衡蒸汽压。只有当环境中被蒸发物质的分压降低到它们的平衡蒸汽压以下，才可能有物质的蒸发。由于物质的平衡蒸汽压随温度上升增加很快，因而对物质的蒸发速率影响最大的因素是蒸发源的温度。在真空中，气体分子密度低，在某些情况下，真空可以近似地看作没有气体“污染”的空间。真空中，气体分子或带电粒子的平均自由程为： 气体的自由程与真空度成正比。要求气体分子的自由程是源到基体距离的2～3倍。所以为了使蒸汽分子以射线状从蒸发源到基体发射，提高蒸发材料的利用率，要求真空度足够高。如果没有足够的真空度，真空室内的残余气体可能很可观，尤其是氧等气体分子容易被吸附后改变膜层结构和成分。1.2 镀膜过程

真空蒸发镀膜主要包括以下几个物理过程：

①采用各种形式的热能转换方式，使镀膜材料蒸发或升华，成为具有一定能量（0.1~0.3ev）的气态粒子（原子、分子或原子团）；

②气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基片； ③粒子沉积在基片表面上并凝聚成薄膜。

实验基本方法：先用机械泵作前级泵获得低真空，在利用油扩散泵作次级泵来获得高真空，同时用fzh—2b型复合真空计中的热偶计测低真空、电离计测高真空，检查需要的真空度是否达到。最后再进行热蒸发镀膜。

【实验仪器】

金属锡丝、玻片、机械泵、油扩散泵、fzh—2b型复合真空计、wdy—v型电子衍射仪。【实验步骤】

1）镀膜室的清理与准备。由于真空室的盖子难以打开，所以先向真空室内充气一段时间，盖子便可轻易取下。清理镀膜室，出去真空室内的残余金属，壁上的沉积物可以用酒精清洗。将金属锡丝折成勾状，大约6个，置于金属钨丝上，最好能和钨丝充分接触，但不能使得钨丝部分短接。

2）准备基底：清洗载玻片。在真空室顶部装好基底，关好真空室。3）打开fzh—2b型复合真空机电源，预热十分钟。

4）wdy—v型电子衍射仪接通电源，把三通阀往外拉到底，打开机械泵（这时机械泵开始抽真空室的空气），先把复合真空计打到左测量档，观察指针变化，发现变化很慢，再打到右测量档，发现指针示数变化比较快，说明右侧的测量档测量的为真空室的气压。

5）把复合真空计打在右测量档，观察示数，当示数低于6.7帕时，把复合真空计打在左测量档，然后把三通阀往里推到底，仍然使示数低于6.7帕，这时再把复合真空计打到右测量档，观察示数（此时真空室的压强），如果发现示数高于6.7帕，那么把三通阀往外拉到底，让机械泵继续抽真空室。同样，如果储气瓶的气压高于6.7帕，则抽完真空室后仍需要把三通阀往里推到底，让机械泵抽储气室。让机械泵反复抽真空室和储气瓶的气压，要使真空室储气瓶的气压都低于6.7帕。

6）接通冷却水，打开油扩散泵，预热40分钟。

7）预热完毕，保证真空室和储气瓶的压强都低于6.7帕，把测量档打在右侧，把三通阀往里推到底，然后打开高真空蝶阀。

8）观察真空计的示数，当示数低于0.1帕时，打开灯丝，电离计接通，按要求不断转换最-3大量程，直到示数小于5 *10帕（此时可关闭电离计,先关闭灯丝，再关闭电离计）。9）镀膜开始，先换挡到镀膜档，再打开镀膜开关，逐渐转动“灯丝—镀膜调节”加大电流到40a。根据钨丝热红程度调节电流大小。

10）观察镀膜情况，当明显观察到钨丝的红光被遮挡或者从侧面看出现类似镜子侧面的紫光时，说明镀膜完毕。慢慢关闭电流开关，然后关闭镀膜开关和镀膜档。

11）关闭高真空蝶阀，切断油扩散泵电源。12）冷却数分钟后，关闭机械泵，对真空室充气，充气完毕，打开镀膜室，取出样品，观察镀膜情况。13）待油扩散泵冷却到室温，切断冷却水。整理仪器。抽真空时注意事项： 油扩散泵：

1）开启前，必须将真空室和储气瓶的真空度预抽至6.7帕以上，在加热前要先通冷却水 2）使用时，时刻关注油扩散泵是否处于工作要求的条件

3）实验结束，先关闭电离真空计，在充气前关闭油扩散泵，关机前要断开加热炉的电源，冷却20分钟以后再关冷却水 电离规管: 1)高真空测量前，注意电离规管的使用范围：10-1帕以上的真空度(或10-1帕以下的压强)，因此要使真空度高于10-1帕

2)高真空测量时，要留意，预计实验条件有没有可能将会不满足预计使用条件 3)高真空测量后，关机时，先关电离规管，后关高真空蝶阀 冷却水：

1)油扩散泵加热前，同时通冷却水

2)油扩散泵使用时，时刻注意水温、流量是否正常

3)油扩散泵冷却至室温后，先关闭机械泵，最后再关闭冷却水

第二篇：钛合金离子溅射镀膜靶材项目可行性研究报告

中金企信（北京）国际信息咨询有限公司—国统调查报告网

钛合金离子溅射镀膜靶材项目可行性研究报告

【报告名称】钛合金离子溅射镀膜靶材项目可行性研究报告 【发布机构】中金企信国际信息咨询中心 【交付时间】7-10个工作日

【表现形式】文字分析、数据比较、统计图表 【报告格式】WORD 版＋PDF 格式+精美装订印刷版 【交付方式】特快专递+电子邮件

【报告价格】根据项目复杂程度等方面进行核定，请致电详细沟通

【报告说明】

可行性研究报告，简称可研，是在制订生产、基建、科研计划的前期，通过全面的调查研究，分析论证某个建设或改造工程、某种科学研究、某项商务活动切实可行而提出的一种书面材料。

项目可行性研究报告主要是通过对项目的主要内容和配套条件，如市场需求、资源供应、建设规模、工艺路线、设备选型、环境影响、资金筹措、盈利能力等，从技术、经济、工程等方面进行调查研究和分析比较，并对项目建成以后可能取得的财务、经济效益及社会影响进行预测，从而提出该项目是否值得投资和如何进行建设的咨询意见，为项目决策提供依据的一种综合性的分析方法。

可行性研究具有预见性、公正性、可靠性、科学性的特点。可行性研究报告是确定建设项目前具有决定性意义的工作，是在投资决策之前，对拟建项目进行全面技术经济分析论证的科学方法，在投资管理中，可行性研究是指对拟建项目有关的自然、社会、经济、技术等进行调研、分析比较以及预测建成后的社会经济效益。

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钛合金离子溅射镀膜靶材上下游产品市场分析预测报告 钛合金离子溅射镀膜靶材上下游产品可行性研究报告

由于可行性研究报告属于订制报告，以下报告目录仅供参考，成稿目录可能根据客户需求和行业分类有所变化。

第一章 钛合金离子溅射镀膜靶材项目总论 第一节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目背景

一、钛合金离子溅射镀膜靶材项目名称

二、钛合金离子溅射镀膜靶材项目承办单位

三、钛合金离子溅射镀膜靶材项目主管部门

四、可行性研究工作的编制单位

五、研究工作概况 第二节 编制依据与原则

一、编制依据

二、编制原则 第三节 研究范围

一、建设内容与规模

二、钛合金离子溅射镀膜靶材项目建设地点

三、钛合金离子溅射镀膜靶材项目性质

四、建设总投资及资金筹措

五、投资计划与还款计划

六、钛合金离子溅射镀膜靶材项目建设进度

七、钛合金离子溅射镀膜靶材项目财务和经济评论

八、钛合金离子溅射镀膜靶材项目综合评价结论 第四节 主要技术经济指标表 第五节 结论及建议

一、专家意见与结论 网 址：www.xiexiebang.com

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二、专家建议

第二章 钛合金离子溅射镀膜靶材项目背景和发展概况 第一节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目提出的背景

一、国家或行业发展规划

二、钛合金离子溅射镀膜靶材项目发起人和发起缘由 第二节钛合金离子溅射镀膜靶材项目发展概况

一、已进行的调查研究钛合金离子溅射镀膜靶材项目及其成果

二、试验试制工作情况

三、厂址初勘和初步测量工作情况

四、钛合金离子溅射镀膜靶材项目建议书的编制、提出及审批过程 第三节 投资的必要性

第三章 钛合金离子溅射镀膜靶材项目市场分析与预测 第一节 市场调查

一、拟建钛合金离子溅射镀膜靶材项目产出物用途调查

二、产品现有生产能力调查

三、产品产量及销售量调查

四、替代产品调查

五、产品价格调查

六、国外市场调查 第二节 市场预测

一、国内市场需求预测

二、产品出口或进口替代分析

三、价格预测 第三节 市场推销战略

第四章 产品方案设计与营销战略 第一节 产品方案和建设规模

一、产品方案

二、建设规模

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三、产品销售收入预测 第二节 市场推销战略

一、推销方式 二、推销措施

三、促销价格制度

四、产品销售费用预测 第五章 建设条件与厂址选择 第一节 资源和原材料

一、资源评述

二、原材料及主要辅助材料供应

三、需要作生产试验的原料 第二节 建设地区的选择

一、自然条件

二、基础设施

三、社会经济条件

四、其它应考虑的因素 第三节 厂址选择

一、厂址多方案比较

二、厂址推荐方案

第六章 钛合金离子溅射镀膜靶材项目技术、设备与工程方案 第一节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目组成 第二节 生产技术方案

一、技术来源途径

二、生产方法

三、技术参数和工艺流程

四、主要工艺设备选择

五、主要原材料、燃料、动力消耗指标

六、主要生产车间布置方案

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第三节 总平面布置和运输

一、总平面布置原则

二、厂内外运输方案

三、仓储方案

四、占地面积及分析 第四节 土建工程

一、主要建、构筑物的建筑特征与结构设计

二、特殊基础工程的设计

三、建筑材料

四、土建工程造价估算 第五节 其他工程

一、给排水工程

二、动力及公用工程

三、地震设防

四、生活福利设施

第七章 建设用地、征地拆迁及移民安置分析 第一节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目选址及用地方案 第二节 土地利用合理性分析 第三节 征地拆迁和移民安置规划方案 第八章 资源利用与节能措施 第一节 资源利用分析

一、土地资源利用分析

二、水资源利用分析

三、电能源利用分析 第二节 节能措施分析

一、土地资源节约措施

二、水资源节约措施

三、电能源节约措施

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第九章 钛合金离子溅射镀膜靶材项目原材料供应及外部配套条件 第一节 主要原材料供应 第二节 燃料、加热能源供应 第三节 给水供电 第四节 外部配套条件

第十章 钛合金离子溅射镀膜靶材项目进度与管理 第一节 工程建设管理

第二节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目进度规划 第三节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目招标 第十一章 环境影响评价 第一节 建设地区的环境现状

一、钛合金离子溅射镀膜靶材项目的地理位置

二、现有工矿企业分布情况

三、生活居住区分布情况和人口密度、健康状况、地方病等情况

四、大气、地下水、地面水的环境质量状况

五、交通运输情况

六、其他社会经济活动污染、破坏现状资料

第二节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目主要污染源和污染物

一、主要污染源

二、主要污染物

第三节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目拟采用的环境保护标准 第四节 治理环境的方案

一、钛合金离子溅射镀膜靶材项目对周围地区的地质、水文、气象可能产生的影响

二、钛合金离子溅射镀膜靶材项目对周围地区自然资源可能产生的影响

三、钛合金离子溅射镀膜靶材项目对周围自然保护区、风景游览区等可能产生的影响

四、各种污染物最终排放的治理措施和综合利用方案

五、绿化措施，包括防护地带的防护林和建设区域的绿化 第五节 环境监测制度的建议 网 址：www.xiexiebang.com

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第六节 环境保护投资估算 第七节 环境影响评论结论 第十二章 劳动保护与安全卫生 第一节 生产过程中职业危害因素的分析 第二节 职业安全卫生主要设施 第三节 劳动安全与职业卫生机构 第四节 消防措施和设施方案建议 第十三章 企业组织和劳动定员 第一节 企业组织

一、企业组织形式

二、企业工作制度

第二节 劳动定员和人员培训

一、劳动定员

二、年总工资和职工年平均工资估算

三、人员培训及费用估算 第十四章 投资估算与资金筹措

第一节 钛合金离子溅射镀膜靶材项目总投资估算

一、固定资产投资总额

二、流动资金估算 第二节 资金筹措

一、资金来源

二、钛合金离子溅射镀膜靶材项目筹资方案 第三节 投资使用计划

一、投资使用计划

二、借款偿还计划

第十五章 财务与敏感性分析 第一节 生产成本和销售收入估算

一、生产总成本估算

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二、单位成本

三、销售收入估算 第二节 财务评价 第三节 国民经济评价 第四节 不确定性分析

第五节 社会效益和社会影响分析

一、钛合金离子溅射镀膜靶材项目对国家政治和社会稳定的影响

二、钛合金离子溅射镀膜靶材项目与当地科技、文化发展水平的相互适应性

三、钛合金离子溅射镀膜靶材项目与当地基础设施发展水平的相互适应性

四、钛合金离子溅射镀膜靶材项目与当地居民的宗教、民族习惯的相互适应性

五、钛合金离子溅射镀膜靶材项目对合理利用自然资源的影响

六、钛合金离子溅射镀膜靶材项目的国防效益或影响

七、对保护环境和生态平衡的影响 第十六章 风险分析 第一节 风险影响因素

一、可能面临的风险因素

二、主要风险因素识别

第二节 风险影响程度及规避措施

一、风险影响程度评价

二、风险规避措施

第十七章 可行性研究结论与建议 第一节 对推荐的拟建方案的结论性意见 第二节 对主要的对比方案进行说明

第三节 对可行性研究中尚未解决的主要问题提出解决办法和建议 第四节 对应修改的主要问题进行说明，提出修改意见

第五节 对不可行的钛合金离子溅射镀膜靶材项目，提出不可行的主要问题及处理意见 第六节 可行性研究中主要争议问题的结论 第十八章 财务报表 网 址：www.xiexiebang.com

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第十九章 附件

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第三篇：镀膜试验室工作总结

试验室在公司的正确领导和具体指导下，从试验室工作的实际出发，紧紧围绕公司的中心工作开展活动，较好的完成公司布置的各项任务。以下是2011年9月试验室工作总结：

一、精神文明建设方面：

1、能够加强中心试验室人员政治思想教育、品德教育和业务培训，加强对员工的指导、检查和监督。全面提高科室人员整体素质，建立并实行科室工作规则。

2、执行文明办公制度，控制使用空调，制止浪费，厉行节约，提倡勤俭办事；积极参加大扫除，保持室内环境整洁。

二、职能作用发挥方面：

1、对试验室各项工作职责、管理制度、管理办法进行了完善。

2、全面落实日常试验配液任务，加强监督指导，做好车间服务。

3、严格执行公司有关试验的技术标准、规范、规程，及时、认真地做好各项基础试验资料。

三、制度执行方面：

1、遇重大问题及时逐级向上级请示报告，做到不瞒报、不虚报、不漏报。

2、严格考勤制度，认真执行上班签到制，不迟到、不

早退，有事要请假。

3、严格执行工作督办制度，及时保质完成领导临时交办任务。

四、存在问题：

由于公司实验室在过去一直是个临时机构，在管理和制度上都存在很多问题，这需要在今后的工作当中摸索经验，更好地完善和发展。试验室工作本身是属于技术含量较高的一项工作，在今后的学习生活当中，我要努力地提高自身的业务水平和思想作风，更好地为公司的发展服务。

第四篇：Ebeam500电子束蒸发镀膜仪操作规程

Ebeam500电子束蒸发镀膜仪操作规程

一、操作规程

1.开启循环冷却水

两个水管开关与水管打到平行位置，冷却水箱电源开关打开。

2.样品取放

电子束蒸发镀膜设备总电源打开，根据操作面板上的各指示灯信号检查设备状态；检查镀膜舱室是否打开，若上次镀完后未打开,样品室处于负压状态，需先放N2至样品室至常压，再打开样品室柜门送样。

放气：先打开放气阀开关（控制面板上有一个放气阀开的按钮），N2运输开关旋转向下至镀膜仪样品室，再打开N2瓶。根据样品室声音判断状态，直至阀门栓自动松开，然后立刻关闭N2瓶总阀及运输开关转回到N2枪方向，再关闭放气阀开关（控制面板上放气阀关闭按钮））；

取样：打开挡板（控制面板上挡板打开按钮），单手水平托住托盘轻轻旋转至脱离样品架卡口，将已经镀好的样品取出。

送样：将新硅片放在托盘上并将托盘的四个豁口卡在样品架支柱上。然后关闭挡板（控制面板上挡板关闭按钮）。

检查坩埚靶材：面板膜厚控制仪区域power按钮打开，按start/begin，坩埚挡板自动打开，检查坩埚，如果正常，关闭power键（挡板自动关闭）。

关闭样品室柜门：首先拧紧柜门两个紧固件，然后依次打开机械泵和电磁阀I，继续拧紧柜门两个紧固件直至柜门被紧紧吸住，等待柜门边缘上的漏气声音先变大后变小至消失，然后紧固件会自动松开，再进一步手动彻底松开两个紧固件。

3.抽真空

打开控制面板真空计开关，等待右边真空计示数达到6Pa以下，关闭电磁阀I，依次打开电磁阀II，按控制面板下方分子泵控制器运行键，再去打开闸板阀，朝打开方向快速旋转直至听到“噹”声，之后继续开至最大（有阻力感），再返回一点。

此时分子泵控制器显示屏提示“转速追踪中…”，在转速达到10000转/分后，分子子泵显示屏将显示其转速、频率、电流和电压（分子泵满转速率是27000转/分；）。然后再打开电离规真空计（真空计左边显示器：依次按功能、置数按钮打开）。

4.镀膜

电离规真空计达到5xl0-4pa以下，即可开启电子束系统进行镀膜，依次打开电子束蒸发源电源总电源、电源、枪灯丝（预热5min），更换坩埚位子（操作杆坩埚按钮控制），选转至需要的镀膜靶材，打开膜厚控制仪power，setting进入选材界面，↓↑选择镀膜材料（1#氧化锌即氧化铝）。膜厚值更改：继续按setting，使光标定位在膜厚值上，delete已有的膜厚值，输入新的膜厚值(一般是所需膜厚+预留值)，完成更改。Start/begin按2次（此时膜厚控制仪显示屏左侧指示灯开始闪烁），打开操作杆高压，（70V起始）调节X(—)（水平方向，顺时针向外移动，逆时针向内移动）和Y(—)（水平方向，顺时针向右，逆时针向左），使光斑在靶材中间。再将束流缓慢旋转打开（顺时针打开，电流指针指向标记位置：AL2O3指向第一格标记（40A左右），Fe指向0.5格标记（20-25A）），镀膜开始。打开样品台旋转开关，转速调至中间。(镀膜速度（AL2O3在0-0.9之间跳动，Fe在0-0.2之间跳动）。达到预留膜厚值时，打开样品台挡板（挡板开关在镀膜设备上，膜厚控制仪下面），挡板打开时，即硅片上开始镀膜，达到预设膜厚值时，膜厚仪显示镀膜结束，依次迅速关闭挡板、束流（逆时针关闭）、高压，结束镀膜，关闭膜厚控制仪、样品台旋转、转速调至0。

如需继续镀膜，则继续等待抽真空至5xl0-4pa,（可以关闭枪灯丝）。重复步骤4，选的镀Fe,直至结束镀膜，关闭膜厚控制仪，样品旋转，转速调至0。

5.关闭

关闭电子束蒸发源电源的枪灯丝、电源、总电源，等待冷却（冷却时间可以长一些，可以凭样品室内温度判断，在镀膜设备上有显示，一般30min-1h）；

真空计开关关掉、然后关闭闸板阀（直到“噹”声，再关一点），然后关闭分子泵（分子泵控制按钮“停”，分子泵转速开始减数至0），分子泵转速为0时，再依次关闭电磁阀II、机械泵、总电源开关、总电源阀拔下；

6.取样：镀膜设备总电源打开，先打开放气阀，再打开N2瓶，N2运输开关旋转向下至镀膜仪样品室，待样品室为常压时，样品室柜门即打开，关闭N2瓶和放气阀，取样。

二、注意事项
1.使用设备是必须开通循环冷却水，确保分子泵、电子枪和膜厚仪探头正常工作；
2.电子束需聚焦于坩埚靶材中部，束流适当，避免蒸发料飞溅；
3.实际膜厚=预设值-挡板打开时的膜厚值（用来稳定束流，调节电子束聚焦光斑位置而预留一定的膜厚值，氧化铝的预留膜厚值一般为20nm，铁的预留膜厚值一般为2nm）；
4.偏振器频率达到：6000 kHz×95%=5700 kHz时，要更换偏振片；
5.X(—)垂直方向调节，Y(—)水平方向调节，X(~)和Y(~)勿动；

6.检查镀膜设备后面的冷却水管接口处是否漏水、积水，及时清理，避免冷却水继续泄露蔓延而危及设备和实验人员安全；

7.定期要检查和维护电子枪灯丝和霍尔离子源，及时清洁绝缘材料表面沉积的蒸发材料，定期清理样品室内壁；

8.做好实验室卫生，定期清洁，保持良好的实验环境。

三、常见状况

1.枪灯丝不亮、高压加不上去等

检查是否电子束蒸发源电源背后有开关跳闸，检查前确保电子束蒸发源电源总电源已关闭。

2.高压加上后又立即自动关闭，高压加不上

可尝试将电子束蒸发源上的电流值加大一点（电流表显示），再重新开启高压，如果正常，可继续后面的镀膜操作。

第五篇：2017年镀膜玻璃行业运行情况报告

2017年镀膜玻璃行业运行情况报告

一、镀膜玻璃市场政策环境分析

中国建筑材料联合会和中国建筑玻璃与工业玻璃协会联合发布《推进玻璃行业供给侧结构性改革打赢“三个攻坚战”的指导意见》，意见指出，2017年是供给侧结构性改革的攻坚之年。为有效引领玻璃行业切实转变思维方式和发展模式，将着力组织打好产业技术创新提升攻坚战，打好发展模式和经营模式创新攻坚战，打好组织结构调整攻坚战，以促进玻璃行业结构调整和转型升级向纵深转折，改观与提升玻璃行业发展水平。

中国建筑玻璃与工业玻璃协会发布《玻璃工业“十三五”发展指导意见》，结构调整的目标之一是玻璃深加工率达60%以上。

新华社北京1月5日电 经李克强总理签批，国务院印发《“十三五”节能减排综合工作方案》，《方案》指出，开展超低能耗及近零能耗建筑建设试点。强化既有居住建筑节能改造，实施改造面积5亿平方米以上，完成公共建筑节能改造面积1亿平方米以上。截止2017年底，中国20个省市获得被动房扶持政策。

国家五部委联合发布《关于推动绿色建材产品标准、认证、标识工作的指导意见》，到2020年，绿色建材应用比例达到40%以上。

综上所述，2017年和以后的几年，对于镀膜玻璃行业来说，面临转型升级的艰巨任务和广阔的市场前景。随着我国建筑节能的迅速发展，对玻璃性能的要求越来越高，由原来的普通平板玻璃、中空玻璃发展到现在的由各种镀膜玻璃组合而成的节能中空玻璃，以Low-E玻璃为代表的节能玻璃已经得到市场和用户的普遍认可，将迎来快速增长的阶段。

二、镀膜玻璃行业运行分析 1.面临巨大的成本压力

为贯彻《国务院办公厅关于促进建材工业稳增长调结构增效益的指导意见》，在2016年煤炭钢铁出清过剩产能任务超额提前完成的基础上，2017年去产能范围扩展至玻璃行业，截止到11月份沙河地区停产了9条浮法玻璃生产线，减少年产能3480万重箱，约占本地区在产产能的20%多。另外，根据《京津冀及周边地区2017年大气污染防治工作方案》和《关于做好邢台市2017-2018采暖季错峰生产攻坚行动的紧急通知》，有30家玻璃企业采暖季限产15%。在此背景下，原片玻璃价格随之上涨，且涨幅和涨价持续时间之长都超出预期，出现淡季不淡的局面。由于原片玻璃占镀膜玻璃成本的比重很高，偏低的产品价格让很多镀膜玻璃企业无利可图，产品利润被大幅压缩。

2.房地产政策出现根本性转变，有喜有忧

2017年房地产市场格局变化很大，上半年，一线城市面临巨大的调控压力，价稳量跌，但三四线城市在去库存的背景下，呈现全面的价涨量增的局面。下半年，中央经济工作会议明确定调“房子是用来住的，不是用来炒的”，房地产市场调控升级，同时金融去杠杆带来银行房贷额度紧张，且流入房地产市场的资金源头被封堵，三四线城市房价涨幅得到控制，一线城市房地产市场逐渐冰封。可以预期，今年以来全国和地方实施的调控政策在未来相当长的时间段内都不会放松。

从公开的信息看，决策层在一步步的学习新加坡和德国的模式，从保障房、租赁房和租售同权逐步开始，构建租购并举的住房制度。在传统房地产模式被压制和调控的情况下，住房租赁市场有望成为新的增长点，以国资背景为代表的房地产企业将获得难得的发展机遇。

综上所述，虽然房地产政策出现根本性转变，但具体到市场是有保有压，整体将平稳运行；绿色节能的镀膜玻璃市场需求还是会不断提升，比重会越来越高。在此主要背景下，镀膜玻璃行业虽然产能依旧过剩，但主要是结构性过剩，高档镀膜玻璃依旧要从圣戈班等国外企业进口，行业急需转型升级。

3.镀膜玻璃产能稳定

由于效益下滑，镀膜玻璃产能基本保持稳定。在此背景下，离线Low-E生产线保持稳定，新增生产线方面，2016年12月重庆耀皮西南地区首条三银Low-E生产线试产，在2017年1月全面投产。在线Low-E生产线由于技术含量较高，未增加新的生产线，建筑用在线Low-E有耀皮两条和中国玻璃一条，新能源和家电玻璃用在线Low-E/TCO有旭硝子和山东华亮各一条；阳光膜生产线保持在24条左右，生产和出货也较为稳定，但随着海外阳光膜生产线的不断投产，出口前景堪忧。