光机设计概念与分析

第一篇：光机设计概念与分析

第一章：投影机系统简介

1-1 光机设计初步认识 1-2 光源在照明系统之行为

1-3 反射罩口径与焦距之关系

第二章：投影机光学元件的角色与作用

2-1 成像基本概念 2-2 照明系统投射原理 2-3 成像基本概念

2-4 Lens与Panel之关系 2-5 系统F#之计算 2-6 系统设计实例演练

第三章：光机设计分析软件实例介绍

3-1 Zemax 3-2-1 ASAP 3-2-2 ASAP

第一章：投影机系统简介 1-1光机设计初步认识

照明系统的设计目的为何?灯源在LCD中有何作用?

现在要说明的是投影机光机之设计的基本概念。在此，我们以一三片式穿透式LCD光机为例。如画面中所显示的是一般所使用的三片式LCD所组成之光机系统。整个 LCD projector的作用是因为LCD本身并非自发性的发光元件，所以必须使用一个灯源来提供光源。使其能透过照明系统，有效的照射于LCD面板上，提供LCD面板投影至镜头所需要的光源。

首先，我们将照明系统视为一个黑盒子，灯源的发光分布经过投影机系统成像到LCD面板上面。由于灯源本身特性使然，其在空间上之能量部分如图A中所示，如果将此光源直接照射于液晶面版上面，除了使得光使用效率大打折扣外，也会使的面版上呈现不均匀之能量分布，进而影响了成像质量。所以照明系统设计之目的，就是希望透过设计的技巧，除了提升光源之效率外，并能均匀化液晶面版上之能量，如图B中所示。

如此一来，可使得LCD成像面上的每个位置都达到均匀效率的分布。透过这样的设计，可将LCD面板透过镜头成像的影像效果达到最佳质量。

1-2光源在照明系统之行为 灯源于反射罩上之行为如何?

为了使设计之照明系统更符合实际之需求，有效而准确的掌握光于照明系统之行为，就成为首要之事，所以首先我们由灯开始，藉由简单之几何关系，了解光于反射罩上之行为。如图1所示，是一2次曲线方程式，我们将曲线上第1焦点定义为f1、第2焦点定义为f2，而曲线顶点与第一焦点距离则定义为f，两焦点之距离为S。首先由f1发射出一光源达到反射罩P点上，经过反射罩，必定会聚焦于f2上面。在f1、P、f2三点所构成之三角形关系式中，我们定义f1到反射罩的距离为r，P点与f2之距离则定义为r’；光线与光轴的夹角为α。则我们利用此三角关系式可以导出

公式1 ：(r')2=r2+s2α)。

如果我们再把两焦点之距离S与焦距F之间定义为延伸率E，整个r的广义式子就是画面中的公式2。所以利用公式2可以广义的定义任意一个曲线。

举例来说：如果在f1焦点上，有一个大小固定的光源时，光线会有一个 △f1的变异量，因此在其聚焦点的位置上，就会产生 △f2=E△f1。所以当f1有△f1的变化量时，在f2的聚焦点会有 E△f1的变异量。利用此关系式，当f1有一定的变化量时，就可以很清楚的知道，光经过一个反射罩之后，光与聚焦点处的变化量的大小为何。当S=0时，由公式2可知，R会等于F，为一个圆的表示式。当S=∞时，r可以简化成，2倍的焦距除以1加上 cos α，如画面上的公式3，为反射罩一抛物线的表示式。

1-3反射罩口径与焦距之关系

何谓抛物线的表示式?如何求出反射罩所需之最小口径及最大口径半径?

为了解光源经过反射罩时之行为，由前面我们得到的抛物线表示式：r为2倍的焦距除以1加上cos α，分别模拟以光α=45及α=135，来看其在反射罩上之光线的行为。当α＝45度角时，代入抛物线的表示式公式1时，可得r=2(2-√2)f。相同的，当α＝135度角（也就负45度时）可得r=2(2 + √2)f。也就是说利用抛物线的表示式，随时可以求出当α为不同角度时，R与f之间之关系式子。以我们平常所使用HID灯而言，一般的张角是由45度到135度之间，所以利用此公式，进而我们可以计算出反射罩所需之最小口径及最大口径半径。依图1例子，当α＝135度时，光线由135度角出射后，这是其最大张角，因此反射罩必须当R是极大值时才可收到光。所以当R为最大值时，可得

公式一：Rmax= r.cos 45° 公式二：Rmax =(2 √2+2)f。

利用此关系式我们可以重覆的计算出Rmax 与Rmin 之间的关系。由式子1和式子2我们可以导出

公式三：Rmax =(2 √2+2)f、Rmin =(2 √2-2)f。

我们也可由导出的结果中发现，只要是使用抛物杯的反射罩时，当焦距固定时，其最大的口径半径就已经可以决定了。而且当f固定时，最小半径也已经决定了。所以利用这些关系式结果可以决定反射罩之使用效率。

如何求出不同焦距时的所需要的最小的口径半径和最大的口径半径？

接着，我们将前面的图以制表方式呈现，画面中表格的横轴显示的是反射罩的焦距Focal Length，纵轴表示的是反射罩的口径半径。如画面中图形所示，当焦距固定为8mm时，其最小的口径半径为6.63，最大的口径半径为38.63。我们可由此图表的例子与实际的反射罩作一比对，将会发现与实际的情况相差并不会太大。藉由此表，我们随时可以计算出在不同Focal Length焦距时的所需要的最小的口径半径和最大的口径半径。

第二章：投影机光学元件的角色与作用 2-1成像基本概念

何谓marginal ray与chief ray？其作用为何？

接着要介绍的是每个光学元件在照明系统所扮演的角色为何。在谈到照明系统设计之前，首先要跟各位介绍一些基本观念，以方便各位更熟悉接下来之课程介绍。各位在之前已经学过基本的光学概念，知道透过成像描线法可以求出透镜的成像位置与高度。只要透过2条光线（主光线与边缘光线），就可以表达出物体经过一透镜成像之过程。如画面中的图为例，我们先定义其中两条光线，第一条从物体与光轴的焦点处和透镜边缘处所连成的光线为marginal ray，第二条由物的最高点处经过透镜的stop 中心连成的光线为chief ray。当marginal ray经过透镜聚焦于光轴上会有一交点，此焦点处就是物体成像之位置。而chief ray为经过透镜STOP中心之光线，经过透镜时并不会发生偏折的现象，所以此延伸的chief ray与成像面也会有一交点，此交点处就是物体成像之高度。故利用marginal ray可以定义出当物体经孔径边缘之光线与光轴之焦点，就是物体成像之位置。同理，利用chief ray则可定义出物体成像之高度。另外，由物点发出的光线是由无数之光线所构成，因此一物体可有无限多组marginal ray及chief ray。本例取一般常见之定义作为介绍。

2-2照明系统投射原理

在光学系统中各个元件之间有何种的比例关系？

我们现在要介绍的是整个光学系统的内部部分，首先看到画面中的图1的光学系统可分为Reflector、Lens Array、PS Converter以及两组透镜(Condenser1 & Condenser2)，在初始设计时，这些元件在照明系统中到底该扮演何种角色，该如何安排，它们之间有何种的比例关系。首先我们先定义反射罩的最大口径为R，其焦距定义为F，Source的arc长度为d、Lens Array的大小为A，而两个之间的距离为fA，后方两组透镜的距离为fB，LCD的宽度为W。以图2所示：一般而言，source光源经过Lens 1会聚焦于Lens 2。由之前所提到的光学概念可知，蓝色出射的线即为marginal ray。当source光源经过Lens 1聚焦于Lens 2，在Lens 2会有一个source 的image成像。由于Lens 2是放置于source 的image的成像位置上，所以光线并不会发生任何偏折，而会继续扩散。所以从这些过程中可知照明系统可分为两部分：

第一，当光源经过Lens 1成像于Lens 2后会投射于LCD的面板上。

第二，如果被照物体位置于Lens 1时，由图2可知，由Lens 1本身构成之光源来看（即画面中之蓝色、红色和绿色光线），可以知道物体经过Lens 2的成像会位于LCD的面板上。而画面中图1也可视为类似图2的发光过程，发光源经过反射罩后，透过Lens Array 聚焦LCD的面板上。

整个照明系统的设计概念就是，发光源经过反射罩透过Lens Array会聚焦于PS Converter上。而图2中之Lens 1的角色就相当于Lens Array，Lens 2的角色就相当于PS Converter，所以灯经过Lens Array聚焦后，再透过Lens 2后会入射于LCD的面板上

2-3成像基本概念 2

如何求出光线经过透镜聚焦于成像面位置上的高度？

现在要介绍的是有关照明系统设计的公式，首先我们看到画面中的图1中有一道平行光经过透镜后会聚焦于焦点处，焦点至透镜边缘的距离称为后焦，如果物体的发光角度为U角时，经过透镜成像于V处，其聚光角度为U’，透过计算可得

公式一： u'= u + y（=/f），其中的 定义为 1/焦距。

另外，假设已知一个平行光入射至透镜的高度为y1，经过折射后聚焦于X处，那么如何求出折射高度y2呢？我们就可以利用 公式二：

y2 = y1-xv

此计算方式，可以很快的找出光线在经过透镜聚焦之后任何一个成像面位置上的高度y2的值。画面中的图2要说明的是两透镜的组合焦距，如果第一个透镜的有效焦距为F1，第二个透镜的有效焦距为F2，则可定义出。同理，后焦(bfl)的表示值也是如此，利用这些公式将有助照明系统的设计。

2-4 Lens与Panel之关系

Lens Array的大小与LCD的宽度有何关系？

现在要说照明系统中光在反射罩中经过Lens Array聚焦行为的关系式。在图1中d灯经过反射罩，理想为平行光时，经过Lens Array后会聚焦于Lens2，通常Lens Array的距离为FA，而Lens A和 Lens B是有相同焦距的透镜组，所以只需将Lens 放置于 Lens A聚焦处即可。我们参考图2来说明其过程，当source光源经过Lens 1聚焦于Lens 2。透过三角关系式，可找出A/ fA ＝d/f，并可导出A /d＝fA /f，这是我们得到的第一个关系式。在画面中的图3是有一束平行光经过Lens A聚焦于Lens B后的成像情形。由图4来看，可知在Lens2的两边是相似三角形。假设图3的Panel宽度为W，Lens1的大小为A，Lens1和 Lens2两透镜间的距离为fA和X，那么W和A之间的有何关系呢？

照明系统中的Lens Array的大小如何决定？

由前面的定义可计算出此两个透镜的焦距f1与焦距f2，此两个透镜的组合焦距可以用表示出来。透过此公式我们可以找出W和A之间的关系为

这是我们得到的第二个关系式。整个Panel和Lens Array的关系可由此关系式来表达。

照明系统中的LCD的宽度如何决定？

当x=f2时，表示Lens1与PS Converter B非常接近时（即X≒f2），上式就可以简化成 2-5系统F#之计算

如何计算光学系统中的F#值？

从前面这两个组合公式A 和W 以及系统F#，（F#的定义是焦距除以孔径），由以上这3个公式可以得到（F# = W fA / AR =const）。F#值等于Panel的大小乗以反射罩的焦距除以反射罩的孔径再乘上灯源d的长度(F#=Wf/Rd)。再代入反射罩之最小及最大半径公式

Rmax =(2 √2+2)f

就可以得到值。

这个最后所求出的公式表示的是一个光学系统的F#值，F#值其实只跟Panel的大小和source的d有关，至于其他的式子只是相互依靠其值是不能改变的。所以当你在设计照明系统时，如你已决定LCD的Panel size时和灯时，那么也就等于决定了F#值，F#的值就无法改变了。

如何决定适合光学系统中的F number值及两透镜之间的距离？

如果.W=25.4、.d=1 mm时，代入F# = W/(9.687×d)公式时，可以求出此照明系统所适合的F#值为=2.62207，以及透镜之间的距离f2为178.54778。再者，根据2*Rmax = 24√2，你可以改变你的F#值，如果将F#改为f3时，将会发现f2的值会变为2 Rmax 乘上F#。因此f2的值也会由原来的178.54778变为203.64675。再由前面Rmax =(2√2+2)f公式，就可以计算出f等于7.02944。所以当你在设计照明系统时，透过这些公式可以帮助你决定适合光学系统中的F#值及F2。

2-6系统设计实例演练

Lens AB的切割数和焦距如何决定？

再来要说明的是LensAB切割数如何决定，一般而言，你可以视系统的需求决定LensAB的切割数。通常LensAB的每个cell比例会依照panel的比例来切割，一般panel的设计比例为4:3。如果我们在一个正圆的反射罩上，切割成许多的Array时，其也应是4:3的比例。以画面中的例子而言，每个cell设计成8mm×6mm时，其A的大小对角线为10，当A和f2已知时，我们就可以计算出 fA的焦距了。

总结来说，当你已决定了Panel size和灯的d大小时，就可以透过以上这些公式计算出f2的大小和LensAB的焦距。

第三章：光机设计分析软件实例介绍 3-1Zemax Zemax简介

ZEMAX 是一套综合性的光学设计软件。它将实际光学系统的设计概念、优化、分析、公差及文件整合在一起。ZEMAX 10.0新版中，包含有 lens design、stray light，illumination，fiber coupling，并且可以搭配CAD软件作转换，是全功能的光学系统设计分析软件。

ZEMAX的应用范围包括：传统相机、数位相机镜头、观景窗…设计；DVD、VCD读写头、投影显示器、照明系统、干涉仪、LED、Laser diode…等。

如何利用Zemax软件找出你所需要的焦距距离？

接下来要介绍的是Zemax优化的部分，如画面中所显示，如果我们要设计出一个已知其焦距为fA、材料为BK7，孔径大小为10mm的 LensA，我们就可以透过Zemax软件找出你所需要的焦距距离。首先在此软件中输入孔径大小10mm，并设定主要光线红、蓝、绿的波长，另外也可以使用此软件的Default Merit Function，将曲率设定为变量，这样就能很快的优化到LensA，找到当R1=42.424827，厚度为5，它可以聚焦到80.17857，也就是你所需要的焦距。所以透过Zemax设计软件可以很快的计算出LensA在不同曲率时所要的Focus Lens距离。

如何利用Zemax软件计算出不同曲率的优化成像位置？

同样的方法，如果已知透镜的焦距为203.646750，就可以很快的计算出当LensB聚焦点会位于203.646750处，其焦距值为多少。所以透过Zemax软件，可以很快计算出当透镜不同曲率直接优化所需成像的位置。

如何利用Zemax软件优化？

现在画面中所显示是我们设计后的结果，LensAB经过系统入射于Lans2之后变成平行光，会在不同位置投射于panel上，由于实际的反射罩并非完美的平行光，因此我们还必需考虑到当光源正负角度入射情形的成像表现。所以透过前面所说的简单计算公式并搭配Zemax软件就可以很快设计出理想的照明系统。3-2ASAP ASAP简介

接下来要介绍的是另一套光学分析软件ASAP。ASAP原名为Advanced System Analysis Program，是美国BRO(Breault Research Organization)公司研发的一套专业光学模拟软件，它可以帮助使用者模拟真实之光学系统，以达到最实际之光学分析结果。

ASAP 可以独立使用，或与其他己构设计成透镜设计软件相结合，来建立3D光学系统模型。无论是灯泡，弧光灯，LED或是雷射光源，均可以轻松的建立。光源可置于几何模型中的任何位置，无论是在介质内外或是在空气中。ASAP 能让使用者观察到光能量在经过系统而产生反射，透射，吸收，绕射或散射等作用后之变化状况。

ASAP光学模拟软件有何特色、功用？

画面中所显示的是把之前所我们建立的公用系统放入至ASAP光学分析软件中模拟光源经过影像系统的成像图。由于实际的光源并非完美的点光源，所以必须搭配一套光学系统模拟软件，模拟实际光源经过影像系统的成像情形。使用ASAP就是因为Zemax这套软件在之前的版本无法模拟真实HID灯的成像表现。将光源资料放在ASAP软件中模拟时，需要注意什么？

画面中显示的是HID灯图。左图是HID灯的进场表现，右图是HID灯的原厂分布。

我们可以将厂商所给予的光源资料放在ASAP软件中建立一个与其相似的发光源。

因为光源资料准确模拟的结果才会准确。所以当你在使用ASAP软件时，一定要建立正确的发光源才能得到正确的结果。

利用ASAP软件或厂商资料两者所做出来的相似的发光源图有何差异

现在画面中所显示的图是我们利用ASAP软件所做出来的相似的发光源图，你可以和上一页中厂商所给予的资料作出来的图相互比较一下。

接下来要利用ASAP软件模拟PS Converter，由于PS Converter需考虑到偏光转换的问题，画面中右图中显示的是一道X光，经过PS Converter 45度反射之后，仍然为一个X偏折光的状态，实际上，以这套ASAP系统来说，X光入射之后遇到45度斜面反射之后出来还是X光。而左图中的P光则会经过系统之后继续穿透。所以在PS Converter后加一个Retarder将其作偏光转换。其整个系统表现如画面中所示。

入射光在不同角度入射时，其穿透率与反射率有关系？

画面中的图提示我们需注意两件事，一般的光学元件表现主要在于波长和角度，因为每个元件的 coating面对于P光、X光在不同的波长时的表现均会不一样。画面中的例子主要是说明在ASAP里面，其实也可以建立一个光随着不同波长时其穿透率与反射率之间的表现形式。同样的，入射光在不同角度入射时，其穿透率与反射率也会有所不同的表现。画面中右图是ASAP模拟的结果，必须要把实际的光源在不同波长的穿透率与反射率表现出来，以及光在不同角度上穿透率的表现，实际的键入最后的模拟值才会比较准确。

ASAP所模拟光源在每个元件的成像表现如何？ B 现在来看看我们实际模拟出来的结果，图中显示光在Lens Array、PS Converter、Lens2、及LCD Panel上的成像情形。利用这样的分析方式，可以实际得到光源在每个元件的成像模拟情形，进而掌握成像的发光行为。

13点照度值的功用为何？

最后以画面中的实例来说，可以比较一下光在成像面上的均匀度表现。按照ASAP量测标准我们可以在软件上面实际的检测，如右图中13点的照度值。由此13点照度值，可以帮助我们很快的判断出成像系统的设计是否有达到物体均匀化的目的。

如何在ASAP中检测光在Panel上的入射角度？

最后还要在ASAP中检测光在Panel上的入射角度。以前面所提到的例子再次做说明，在画面中的图可以看出，如果设计一个F number 3（F/）的系统，其入射角度大约只有10度左右，这是符合我们的设计需求。

照明系统设计时有哪些步骤？

现在将整个照明系统的设计步骤与流程，做个整理说明。首先在照明系统中我们会知道panel size 的大小与arc的长短，由厂商的资料也可以知道reflector size为多少，而lensAB aperature则是由设计者自己决定。当设计者将这些数值代入算式中，可以很清楚的计算出 F#值。如果觉得F#值并不适合，你也可以更改F#。不过要注意的是，当F#改变时，整个物体系统的距离也会随之而改变。透过本章所叙述的计算式子，可以很快的计算出所需要的F2以及 fA。最后将计算式所得到的数值放入光机设计软件Zemax中作最佳化设计。

第二篇：算法设计与分析书中概念总结

6递推步骤

7算法描述（盒图 PAD图之类的老师说看看但我不懂怎么考）

1.算法的基本性质

（1）目的性：算法有明确的目的，算法能够完成赋予它的功能。

（2）分步性：算法为完成其复杂的功能，由一系列计算机可执行的步骤组成。

（3）有序性：算法的步骤是有序的，不可能随意改变算法步骤的执行顺序。

（4）有限性：算法是有限的指令顺序，算法所包含的步骤是有限的。

（5）操作性：有意义的算法总是对某些对象进行操作，使其改变状态完成其功能。

2.算法的考量

对于算法的分析和评估，一般考虑正确性、可维护性、可读性、运算量、占用存储空间等方面考虑。三条主要标准：

（1）算法实现所耗费的时间。

（2）算法实现所耗费的空间，其中主要考虑辅助存储空间。

（3）算法易于理解、易于编码、易于调试。

3.什么是迭代

迭代法也称“辗转法”，是一种不断用变量的旧值递推出新值的解决问题的方法。

4.分治法求解的过程

分治法求解问题的过程是，将整个问题分解成若干个小问题后分而治之。如果分解得到的子问题相对来说还太大，则可反复使用分治策略将这些子问题分成更小的同类型子问题，直至产生方便求解的子问题，必要时逐步合并这些子问题的解，从而得到问题的解。

（1）分解：将原问题分解为若干个规模较小，相互独立，与原问题形式相同的子问

题。

（2）解决：若子问题规模较小而容易被解决则直接解决，否则继续分解为更小的子

问题，直至容易解决。

（3）合并：将已求解的各个子问题的解，逐步合并为原问题的解。

5.动态规划策略

基本思想：把求解问题分成许多阶段或多个子问题，然后按顺序求解各个子问题。基本步骤：

（1）划分阶段：按照问题的时间或空间特征，把问题分为若干个阶段。注意，着

若干个阶段一定要是有序的或者可排序的。

（2）选择状态：将问题发展到各个阶段时所出现的各个客观情况用不同的状态表

示出来。当然，状态的选择要满足无后效性。

（3）确定决策并写出状态转移方程：状态转移就是根据上一阶段的状态和决策来

导出本阶段的状态。这就像是“递推”，根据相邻两个阶段的状态之间的关系来确定决策方法和状态转移方程。

6.递推

第三篇：规划设计分析与概念设计管理办法

规划设计分析与概念设计管理办法目的为适应公司业务规模发展，在投资阶段导入规划设计分析，对项目可行性充分论证，利于控制经营风险；规范对概念性方案的论证，提升公司产品竞争力。范围

适用于公司全资拥有、控股或相对控股的房地产项目。方法和过程控制

3.1 “定位”释义

3.1.1 本管理办法包含“规划设计分析”与“概念性方案管理”二部分。

3.1.2 “规划设计分析”是在投资、策划阶段，对项目的开发强度、规划设计可行性进行分析，提出假想方案以支撑项目的财务分析和项目产品策划。

3.1.3 “概念性方案管理”以《项目策划报告》中的产品定位内容、成本控制目标、设计任务书为基础，指导参加竞标单位进行设计，由公司方案评审委员会评选出中标方案后，进一步深化修改，成果由中标概念性方案及《后续设计落实控制要点》体现。

3.2 投资策划阶段规划设计分析

3.2.1 根据《项目策划报告编写指引》完成设计必需基础资料的收集、整理工作

3.2.2 规划设计外部协作条件的取证要求

在项目策划及概念性方案设计各阶段，设计管理部除了与设计单位密切配合外，有很多方面需要及时与项目所在地方政府、主管部门或国家机关等相关部门、机构取得联系，进行沟通、协调，并取得相关数据及有关方面的协议或批文，并作为各阶段设计的依据和条件提供给设计单位，这些条件称为规划设计的外部协作条件。

一般相关的部门有：计委、国土、建委、规划局、工商统计局、银行、文教、环保、卫生、水、电、电信、煤气、热力、市政、消防、人防、安全保卫部门等。

3.2.3 项目场地地质勘察

项目场地地质勘察应根据项目策划、概念性方案设计不同阶段的要求分阶段进行。

在新项目选择、可行性分析阶段，设计管理部、项目部应负责进行可行性研究勘察（选址勘察），目的是对地块场地的地质稳定性和建筑适宜性做出评价，主要手段是搜集地块有关的地质资料和建筑经验资料、踏勘了解场地工程地质条件；当拟建场地工程地质条件复杂，已有资料不能满足要求时，可根据具体情况进行工程地质测绘和必要的勘探工作。

在项目策划阶段应进行场地初步勘察，为确定建筑总平面布置、主要建筑物地基基础设计方案提供岩土工程勘察资料，初步勘察应符合初步设计的要求。

3.2.4 设计条件论证

在项目投资决策、项目策划工作完成后，策划小组应汇总收集的设计基础资料、产品策划报告以及成本控制表，进行全面的综合分析，论证是否具备开展项目概念性设计工作的条件。在概念性设计开始之前，策划小组应进行客户细分、竞争产品研究；负责编制《项目开发网络图》，负责将经审定的项目策划思想核心转化为工程语言，形成概念性方案设计任务书，并报公司管理层审批。

3.3概念性方案设计

根据公司采购管理中设计单位的招（议）标程序，设计管理部提出概念设计招（议）标申请以及备选供应商（概念设计单位）名单，采购管理部牵头组织招标全过程工作。

设计管理部负责编制《概念性方案设计深度要求》、《概念性方案设计任务书》等相关技术资料，汇同成本管理部提出的限额设计要求、营销管理部提出的产品策划要求，在《项目策划报告》基础上，编制《概念设计委托合同》，相关技术要求、成本控制要求、产品定位要求

等要作为合同附件资料。

设计管理部负责与拟选择设计单位进行商务谈判、签订《概念设计委托合同》。设计管理部应向设计方提交完整设计基础资料。

在设计过程中，设计管理部应加强和设计人员的沟通和讯息联络，密切跟踪设计过程，避免概念方案设计方向的偏离，同时进一步解释业主委托意见；当设计人员有新颖的创意时，不要立即否定，可以采用整合方式共同研讨方案的实施性；对影响产品定位、成本的重大技术问题，设计管理部负责组织相关部门、人员进行专题价值工程分析，确定最优的技术方案；同时，设计管理部应与相关政府主管部门保持适当的沟通、协调关系，及时将设计基础条件的任何改变通知设计院并研究确定应对策略。

设计方提交概念性方案设计文件之后，设计管理部应对照委托合同检查设计文件的完整性和设计深度，满足要求后上报公司进行内部评审。

公司内部评审要根据流程，通过方案评审小组集体决策，审核管理可参见《概念性方案及单体方案设计评估程序》，《概念性方案及单体方案设计简评表》

概念设计阶段的成果体现为《概念性设计方案》及《后续设计落实控制要点》，后者由设计单位与设计管理部共同编制，目的是在后期方案及深化设计中落实概念设计的思想和相关控制指标。附则

4.1 本管理办法所规范的所有环节及涉及内容均为公司经营机密，任何人不得泄露。

4.2本管理办法可根据公司发展和行业环境变化需要适时修改。

4.3项目操作过程中，出现本管理办法不适应情形，可视具体情况由公司相关职能部门商议修订和执行。

4.4本办法解释权归公司设计管理部

5相关附件

《项目策划报告》

《项目策划报告编写指引》

《后续设计落实控制要点》

《项目开发网络图》

《概念性方案设计任务书》

《概念性方案设计深度要求》

《概念设计委托合同》

《后续设计落实控制要点》

《概念性方案及单体方案设计评估程序》

《概念性方案及单体方案设计简评表》

第四篇：企业文化概念与案例分析

企业文化概念与案例分析

班级：09电子信息工程学号：200905010121 姓名：黄幸伟

企业文化的概念也称公司文化，是企业在长期实践中形成的共同理想、基本价值观、作风、生活习惯和行为规范的总称，对企业成员和利益相关者有感召力和凝聚力，能把众多人的兴趣、目的、需要以及由此产生的行为统一起来，是企业长期文化建设的反映。

所谓基本的价值观是有共同的目标，能够达到相同的共识。记得在2003年，美国攻打伊拉克前夕，为了拉拢西方各国的支出，美国国务卿赖斯就对德国的总理说了一句话，我们是有共同价值观的人。因此我们可以体会到，拥有相同的基本价值观是做合作做一件事情的前提。

一个公司的文化，领导者对其影响起到了举足轻重的地位。领导者的作风还有生活习惯，这些都很好的反应出一个企业文化。公司的规章制度也是企业文化组成的一部分，员工是否遵循公司的制度也反应出公司文化的发展。

诺基亚、西门子、海尔、惠普、丰田、本田，这些企业的成功，便很好的说明了，企业文化是公司的灵魂支柱。诺基亚在苏联解体后失去东欧市场的所有份额，曾经找过索尼公司收购未成，后来任命43岁的市场经理担任董事长后，便开始创建企业文化，让所有公司的员工有共同的理想、基本价值观等等。换来今天占全球手机市场的首席位置。

在我们生活中很多事例可以告诉我们，企业的文化是企业发展和重要部门也是企业的灵魂。

第五篇：DR简介(X光机)

DR简介

DR(Digital Radiography)，即直接数字化X射线摄影系统，是由电子暗盒、扫描控制器、系统控制器、影像监示器等组成，是直接将X线光子通过电子暗盒转换为数字化图像，是一种广义上的直接数字化X线摄影。而狭义上的直接数字化摄影即DDR（DirectDigit Radiography），通常指采用平板探测器的影像直接转换技术的数字放射摄影，是真正意义上的直接数字化X射线摄影系统。

DR与CR的共同点都是将X线影像信息转化为数字影像信息，其曝光宽容度相对于普通的增感屏-胶片系统体现出某些优势：CR和DR由于采用数字技术，动态范围广，都有很宽的曝光宽容度，因而允许照相中的技术误差，即使在一些曝光条件难以掌握的部位，也能获得很好的图像；CR和DR可以根据临床需要进行各种图像后处理，如各种图像滤波，窗宽窗位调节、放大漫游、图像拼接以及距离、面积、密度测量等丰富的功能，为影像诊断中的细节观察、前后对比、定量分析提供技术支持。对两者的性能比较如下：1.成像原理：DR是一种X线直接转换技术，它利用硒作为X线检测器，成像环节少；CR是一种X线间接转换技术，它利用图像板作为X线检测器，成像环节相对于DR较多。2.图像分辨率：DR系统无光学散射而引起的图像模糊，其清晰度主要由像素尺寸大小决定；CR系统由于自身的结构，在受到X线照射时，图像板中的磷粒子使X线存在着散射，引起潜像模糊；在判读潜像过程中，激光扫描仪的激发光在穿过图像板的深部时产生着散射，沿着路径形成受激荧光，使图像模糊，降低了图像分辨率，因此当前CR系统的不足之处主要为时间分辨率较差，不能满足动态器官和结构的显示。3.DR是今后的发展方向，但就目前而言，DR电子暗盒的结构14 in×17 in(1 in=2.54 cm)由4块⒎5 in ×8 in 所组成，每块的接缝处由于工艺的限制不能做得没缝，且一旦其中一块损坏必将导致4块全部更换，不但费用昂贵，还需改装已有的X线机设备，而CR相对费用较低，且多台X线机可同时使用，无需改变现有设备。4.CR系统更适用于X线平片摄影，其非专用机型可和多台常规X线摄影机匹配使用，且更适用于复杂部位和体位的X线摄影；DR系统则较适用于透视与点片摄影及各种造影检查，由于单机工作时的通量限制，不易取代大型医院中多机同时工作的常规X线摄影设备，但较适用于小医疗单位和诊所的一机多用目的。事实上，CR和DR系统在相当长的一段时间内将是一对并行发展的系统。数字X线机是计算机数字图像处理技术与X射线放射技术相结合而形成的一种先进的X线机。在原有的诊断X线机直接胶片成像的基础上，通过A/D转换和D/A转换，进行实时图像数字处理，进而使图像实现了数字化。它的出现打破了传统X线机的观念，实现了人们梦寐以求的模拟X线图像向数字化X线图像的转变。

特点：

第一，它最突出的优点是分辩率高，图像清晰、细腻，医生可根据需要进行诸如数字减影等多种图像后处理，以期获得理想的诊断效果。

第二，该设备在透视状态下，可实时显示数字图像，医生再根据患者病症的状况进行数字摄影，然后通过一系列影像后处理如边缘增强、放大、黑白翻转、图像平滑等功能，可从中提取出丰富可靠的临床诊断信息，尤其对早期病灶的发现可提供良好的诊断条件。

第三，数字化X线机形成的数字化图像比传统胶片成像所需的X射线计量要少，因而它能用较低的X线剂量得到高清晰的图像，同时也使病人减少了受X射线辐射的危害。

第四，由于它改变了已往传统的胶片摄影方法，可使医院放射线科取消原来的图像管理方式和省去片库房，而可采用计算机无片化档案管理方法取而代之，可节省大量的资金和场地，极大地提高工作效率。此外，由于数字化X线图像的出现，结束了X线图像不能进入医院PACS系统的历史，为医院进行远程专家会诊和网上交流提供了极大的便利。另外，该设备还可进行多幅图像显示，进行图像比较，以利于医生准确判别、诊断。通过图像滚动回放功能，还可为医生回忆整个透视检查过程。

数字化X线的临床应用

数字化的图像质量与所含的影像信息量可与传统的X线成像相媲美。图像处理系统可调节对比。故能达到最佳的视觉效果；摄照条件的宽容范围较大；患者接受的X线量减少。图像信息可由磁盘或光盘储存，并进行传输，这些都是数字化图像的优点。

数字化图像与传统X线图像都是所摄部位总体的重迭影像，因此，传统X线能摄照的部位也都可以用DR成像，而且对DR图像的观察与分析也与传统X线相同。所不同的是DR图像是由一定数目的象素所组成。

数字化图像对骨结构、关结软骨及软组织的显示优于传统的X线成像，还可行矿物盐含量的定量分析。数字化图像易于显示纵隔结构如血管和气管。对结节性病变的检出率高于传统的X线成像，但显示肺间质与肺泡病变则不及传统的X线图像。DR在观察肠管积气、气腹和结石等含钙病变优于传统X线图像。

用数字化图像行体层成像优于X线体层摄影。胃肠双对比造影在显示胃小区、微小病变和肠粘膜皱襞上，数字化图像优于传统的X线造影。

DR是一种新的成像技术，在不少方面优于传统的X线成像，但从效益-价格比，尚难于替换传统的X线成像。在临床应用上，DR不像CT与MRI那样不可代替。