管理平台CMP

第一篇：管理平台CMP

管理平台CMP(Campaign Management Platform)，营销活动管理平台，这是在移动这个项目的叫法，在电信有一个CMS系统据说与此相似，但我没接触过，不了解。CMP其实是基于数据仓库数据基础之上，利用NCR的一个TCRM产品做的一个分析应用。

由于目前广东移动营销方案数量大、种类多，营销活动应接不暇，变化频繁，有的地市每月常规营销活动就30多个，全省月接触客户4500万次，面对如此数量庞杂的营销活动/营销方案，广东移动建立了这套对营销活动实现有序且体系化的管理系统。其系统主要功能是：

1、确定目标客户群体：需要完成成百上千个选择变量的提取并分类，实现快速准确地找到营销目标客户（客户细分）。

2、营销活动流程设计：对营销活动流程进行调研，设计营销活动流程模板，包括营销活动类别、性质、运作模式等等；能够做到营销活动自动化，可提高营销活动数量，并使事件营销成为可能。

3、渠道整合：成本监控，目标客户渠道分配，主被动营销管理，渠道能力评估，优化渠道利用和成本合理应用。可开展多重步骤、多种销售渠道的营销活动，协助各渠道联动向客户进行营销。

4、接触管理：控制客户联系次数，确保不会因为大量的营销活动而过度干扰顾客，维持每位客户营销活动的频率及一致性，提升顾客满意度。

5、活动实施效果跟踪：形成营销效果评估、报表体系，建立完善的评估体系，形成闭环流程。

6、活动实施效果分析：对营销活动本身的分析，即针对确定的目标客户，采取主动营销的方式和不采取行动的方式开展营销活动产生的效果的对比分析，以判断活动是否适合推广。同时，还需要分析支持活动开展的各个渠道的支持情况和对接触客户的反馈信息进行分析。

以上功能广东移动基本实现，但是，这个系统的实施过程中也遇到很多问题，如客户细分变量的提取，需要将选择变量分成类，如根据客户层面属性选择目标客户：集团属性、服务等级（VIP)、托收类型、话费报销政策、可用积分；根据号码层面属性选择目标客户：卡类型、中高价值属性、用户状态、付费模式、用机类型、投递方式；根据客户不同期间的消费行为选择目标客户；然后渠道整合的工作也很头痛，很费精力和时间，需要和BOSS、SMS、WEB、外呼等等建立统一的接口，实现CMP数据和渠道反馈回来的数据互传。

总之，这个系统不能说是成功的，因为功能是有了，但TCRM产品界面友好，使用很麻烦，直接影响到客户的接受心理，毕竟这些主要的功能都是TCRM产品提供的，至少系统的整体效果目前还没有

第二篇：CMP(化学机械抛光)技术发展优势及应用

CMP(化学机械抛光)技术发展优势及应用

CMP-化学机械抛光技术它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。在一定压力及抛光浆料存在下，被抛光工件相对于抛光垫作相对运动，借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合，在被研磨的工件表面形成光洁表面151.CMP技术最广泛的应用是在集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。而国际上普遍认为，器件特征尺寸在0.35 5m以下时，必须进行全局平面化以保证光刻影像传递的精确度和分辨率，而CMP是目前几乎唯一的可以提供全局平面化的技术。其中化学机械抛光浆料是关键因素之一。抛光磨料的种类、物理化学性质、粒径大小、颗粒分散度及稳定性等均与抛光效果紧密相关。此外，抛光垫的属性(如材料、平整度等)也极大地影响了化学机械抛光的效果.随着半导体行业的发展，2003年，全球CMP抛光浆料市场已发展至4.06亿美元.但国际上CMP抛光浆料的制备基本属于商业机密，不对外公布。1化学机械抛光作用机制

CMP作用机理目前还没有完整的从微观角度的理沦解释。但从宏观上来说，可以解释如下:将旋转的被抛光晶片压在与其同方向旋转的弹性抛光垫上，而抛光浆料在晶片与领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

底板之间连续流动。上下盘高速反向运转，被抛光晶片表面的反应产物被不断地剥离，新抛光浆料补充进来，反应产物随抛光浆料带走。新裸露的品片平面又发生化学反应，产物再被剥离下来而循环往复，在衬底、磨粒和化学反应剂的联合作用下，形成超精表面，要获得品质好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则会在抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹;反之，机械抛光作用大于化学腐蚀作用则表面产生高损伤层.为了进一步了解CMP作用的本质，近年来国内外有很多关于CMP作用微观机理的研究.清华人学王亮亮、路新春的研究表明:CMP中主要是低频、大波长的表面起伏被逐渐消除，而小尺度上的粗糙度并未得到显著改善;当颗粒直径在10^-25 nm的范围时，粒径和粗糙度不存在单调的增减关系;桔皮的产生主要是抛光浆料中碱浓度过高所致。而北京交通大学张朝辉等根据Lei提出的CMP作用中纳米流体薄膜理论，提出化学机械抛光过程中，受载的粗糙峰和被抛光的品片表面之间存在一纳米量级的薄流体膜，形成了纳米级薄膜流动系统，指出对纳米级流动规律进行研究将有助r-了解化学机械抛光的作用机理，其中，在极薄的膜厚情况下的温度场分析是一项迫切任务。同时，陈杨的研究也表明了相似的观点:材料的去除首先源于化学腐蚀作用。一方面，在抛光领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

过程中晶片表面局部接触点产生高温高压，从而导致一系列复杂的摩擦化学反应;在抛光浆料中的碱性组分和纳米磨料颗粒作用下，硅片表面形成腐蚀软质层，从而有效地减弱磨料对硅片基体的刻划作用，提高抛光效率和抛光表面质量。另一方面，根据Preston公式: N RR=QWNV(其中，NRR为材料去除率;QW为被抛光材料的密度;N为抛光有效磨料数;V为单个磨料所去除材料的体积，包括被去除的硅丛体的体积V,和软质层的体积V2)，软质层的形成导致v增大(即化学腐蚀作用可促进机械磨削作用)，V1减小，从而有利于减小切削深度、增强塑性磨削和提高抛光表面质量。因此，在抛光浆料质量浓度相同的条件下，采用纳米磨料抛光不仅有利于减小切削深度、提高抛光表面质量，同时由于有效磨料数N的急剧增大，还有利于提高抛光效率。应该指出的是，软质层的厚度同抛光条件有关，就纳米级磨料而言，相应的软质层的厚度一般处于几纳米至十几纳米之间:而由于CMP是机械去除和化学去除相互作用的过程，因此难以通过静态化学腐蚀测最软质层的硬度。忽略抛光垫和其它一些因素的影响，抛光浆料的流动特性对CMP的行为有很大的影响。一般抛光浆料磨粒为圆形的纳米级粒子，利用微极性流体可以模拟粒子的微旋运动对抛光性能的影响。张朝辉研究的模拟结果表明微极性将增加承载能力，从而有利于提高抛光速率。这一特性在低节距或低转速下更为显著，体现出尺寸依赖性。

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2化学机械抛光浆料

抛光浆料的成分主要由三部分组成:腐蚀介质、成膜剂和助剂、纳米磨料粒子。抛光浆料要满足抛光速率快、抛光均一性好及抛后易清洗等要求.磨料粒子的硬度也不宜太高，以保证对膜层表面的机械损害比较轻。

按pH值分类，抛光浆料主要分为两类:酸性抛光浆料和碱性抛光浆料。一般酸性抛光浆料都包含氧化剂、助氧化剂、抗蚀剂(又叫成膜剂)、均蚀剂、pH调制剂和磨料。氧化剂起在被抛光物件表面发生氧化腐蚀作用，然后通过机械作用去除表面凸起部分，使物件表面平整:另外，氧化剂还能氧化基体表面形成一层氧化膜从而提高选择性。助氧化剂起到提高氧化速率的作用。均蚀剂可使腐蚀均匀，从而使表面光滑细腻;抗蚀剂的作用是在被抛光物件表面与被腐蚀基体形成一层联结膜，从而阻止腐蚀的进行以提高选择性。而碱性抛光浆料中一般包含络合剂、氧化剂、分散剂、pH调制剂和磨料。因为碱性抛光浆料仅在强碱中才有很宽的腐蚀领域，而且磨料易造成划伤，所以应用远不如酸性抛光浆料广泛。对于不同的腐蚀基体要选择不同的络合剂:分散剂一般为大分子量非离子有机分散剂，其作用是保证浆料中的磨料不发生絮凝和沉降现象，并使磨料的勤度保持尽可能低，具有良好的流动性。下面主要介绍目前使用最为广泛的几种抛光浆料。

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2.1 CeO2抛光浆料

稀土氧化物CeO2具有很好的抛光性能，其特点是抛光速率高，对材料的去除率高，被抛光表面粗糙度和表面微观波纹度较小，颗粒硬度低，对被抛光表面损伤较弱;其缺点是勃度大，易划伤且高低选择性不好，沉淀在介质膜_L吸附严重，为后续清洗带来困难.CeO2抛光浆料广泛应用于玻璃精密抛光、超大规模集成电路Sio2介质层抛光和单晶硅片抛光等，而现在国内外有很多研究也致力于CeO2抛光浆料对半导体衬底材料(如GaAs晶片)的抛光。

首先纳米CeO2粒子通过化学吸附与抛光表面上的Sio2之间形成Ce-O-Si键，CeO2粒子将表面部分Sio2撕裂下来，进入溶液中;经过扩散，Sio2粒子又从CeO2粒子的表面脱落。Ce-O-Si键的形成与S-O-Si键的断裂影响着抛光速率.化学吸附作用和机械撕裂作用同时影响着Si-O-Si键的断裂。CeO2抛光浆料区别于传统抛光活性强的抛光浆料都是强酸，它在碱性抛光环境下是两性的，能同时吸附阳离子和阴离子，故有更好的抛光性能。乡屯度、硬度、粒度、粒度分布、悬浮性、表面电性、表面活性和密度等都是影响其抛光性能的主要因素.粒度大的适合高速抛光，粒度小的适用于低速抛光圈.具有高抛光性能的纳米CeO2目前的合成方法主要有:液相反应法、固相反应法、机械化学法。液相反应法包括:溶领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

胶一凝胶法、液相沉淀法、电化学法、水热法、微乳液法、喷雾热分解法等。张鹏珍等采用溶胶一凝胶法制备了平均晶粒度在13.3 nm且粒度分布均匀的纳米CeO2粉体，经此CeO2抛光浆料抛光后的玻璃幕片表面粗糙度(Ra)可降到0.6nm左右，显示了良好的抛光性能。Ming等(2a)也采用此法在常压下制备纳米CeO2,原料为硝酸饰钱、尿素和去离子水，通过加热得到的CeO2粒径为8 nm，具有立方体结构。电化学法制得的CeO2优点是粒子粒度很小，分散性也较好，工艺也相对简单，但是产率较低。水热法的优点是不需要进行高温灼烧处理，避免了硬团聚。Verdon等在耐熔的合金容器中，于1.5 MPa和500%条件下进行水热合成制得的纳米CeO2晶型较好。BondioliF等利用固相反应在得到的CeO2产物尺寸为10-20 nm，且具有较好的尺寸分布.有研究表明，用机械化学法也能制成粒度在10-20nm的纳米CeO2.Rajendran(291通过一种新的方法研究了CeO2抛光Si仇过程，发现CeO2的机械作用能加速其与Siq还原的化学反应，并且在抛光过程中存在Cc 3+与Ce0+两种价态。

2.2 Si02抛光浆料

Si仇抛光料的优点是选择性和分散性好，机械磨损性能较好，化学性质较活泼，后清洗过程废液处理较容易，其缺点是硬度较高，易在被抛光物体表面造成不平整，且在抛光领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

浆料中易产生凝胶现象，对抛光速度的再现性有不良影响，同时会使被抛光物体表面产生刮伤。SiO2抛光浆料的pH值、磨料粒径(50-200 nm)与分散度、浓度等都对其抛光效果有很大的影响。Si02抛光浆料用于硅片的抛光、层间介电层OLD)的抛光、妮酸钾晶片的抛光、硬盘基片的抛光等。Siq抛光料的制备方法国内外有很多研究，从总体来说主要是分散法与凝聚法:分散法是通过机械搅拌将纳米Si仇粉末直接分散到水中来制备Si02浆料的。用分散法制备Si02浆料主要包括以下3个过程:①纳米Si02颖粒在液体中润湿:②团聚体在机械搅拌力作用下被打开成独立的原生粒子或较小的团聚体;③将原生粒子或较小的团聚体稳定住，阻止再发生团聚。采用分散法制备出的Si仇浆料浓度高、颗粒均匀、分散性好、纯度高、黏度较小，但受粉体本身性能的影响特别严重。凝聚法是利用水溶液中化学反应所生成的SiO2通过成核、生长，采用各种方法脱除其中杂质离子得到纳米Sio2水分散体系的一种方法，该法制得的Sio2浆料颖粒粒径均一，形状规整，纯度与浓度也较高.王占银以SiO2作为抛光浆料，分析了影响妮酸铿晶片抛光效果的因素，通过优化工艺参数，使妮酸锉的表面粗糙度凡达到0.387 nmo雷红制备了Sio2抛光浆料用来抛光镍磷敷镀的硬盘基片，表面形貌仪测得抛光后基片的表面粗糙度和波纹度分别为0.052 nm和0.063 nm,且基片表面无凹坑、电蚀等缺陷。另有研究领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

表明[301当Si02抛光浆料pH->9时，在抛光浆料中加入适量的活性剂和鳌合剂，能消除Si02凝胶现象，得到较好的抛光结果。目前，对影响Si02抛光浆料抛光效果〔高抛光速率、低表面损伤、高表面平整度、易清洗等)的各种因素(抛光浆料粒度、pH值、温度、抛光浆料流速等)的研究己比较成熟.2.3 A1203抛光浆料

1998年日本COSMOS公司首次开发了纳米级别的超细A1203微粉作磨料的纳米级抛光剂，从而Al2o3抛光浆料广泛应用于CMP领域，以纳米Y-AI203为研磨粒子的浆料可用于集成电路生产过程中层间钨、铝、铜等金属薄膜的平坦化及高级光学玻璃、石英品体和各种宝石的抛光等.A12o3场抛光浆料因具有选择性低、分散稳定性不好、易团聚等缺点，往往在几分钟内就会出现沉淀，颗粒变粗，所以在抛光中表面划伤严重，损伤层深，所以通常A1203抛光浆料要混合有机添加物一起使用并控制好工艺条件以达到良好的抛光效果。宋晓岚等的研究表明，在y-A12伪固含量为6%的浆料中，加入异丙醉胺分散剂的用量为-y-A1203粉体质量的1%，同时控制浆料的pH值约为4，此时纳米y-A12场粉末的润湿性能最佳，浆料Zeta电位值较高，勃度较小，在该条件下可成功获得长时间不沉降的稳定浆料。卢海参采用丙烯酞氯对超细氧化铝进行表面改性，有效提高了氧化铝抛光浆料的分领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

散性，进一步的研究表明材料去除速率随压力或下盘转速先增大后减小，随抛光时的延长，材料去除速率初期较人，后期变化趋于平缓。具有良好的抗静电性和可擦性的A1203抛光浆料在国内已经研制出来，应用于磁性材料的精密抛光加工中。有研究表明,通过A1203外层包覆Si02形成壳一核性结构粒子抛光浆料抛光能很好地提高抛光性能，减低表面损伤和粗糙度，其机理可能为壳一核结构的缓冲效应和粒子之间的解聚作用。

3化学机械抛光技术发展趋势

随着计算机、通信及网络技术的高速发展，对作为其基础的集成电路的性能要求愈来愈高。集成电路芯片增大而单晶体管元件减小及多层集成电路芯片是发展的必然趋势，使得CMP在集成电路行业的重要性越来越显著，这对CMP技术提出了更高的要求。

在CMP设备方面，正在由单头、双头抛光机向多头抛光机发展;结构逐步由旋转运动结构向轨道抛光方法和线形抛光技术方面发展;开发带有多种在线检测装置的设备，如组装声学信号、力学信号、薄膜厚度及抛光浆料性质等在线测量装置，并且结合目前的干进干出要求，将抛光后清洗装置与抛光机集成来进行开发。在应用方面，CMP技术已从集成电路的硅品片、层间介质(ILD)、绝缘体、导体、镶嵌金属W.AI.Cu.Au及多晶硅、硅氧化物沟道等的平面化，拓展至领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

薄膜存贮磁盘、微电子机械系统(MFMS)、陶瓷、磁头、机械磨具、精密阀门、光学玻璃和金属材料等表面加工领域。在CMP抛光浆料方面，关键是要开发新型抛光浆料，特别是复合磨料抛光浆料，使其能提供高的抛光速率、好的平整度、高的选择性以及利于后续清洗过程，以使磨料粒子不会残留在芯片表面而影响集成电路性能。

CMP浆料有待于发展的技术有:磨料制各技术、浆料分散技术和抛光浆料配方技术。首先要解决的就是尺寸小、分散度大、硬度适中、均匀性好、纯度高的纳米磨料粒子。抛光浆料的排放及后处理工作最也在增大(出于环保原因，即使浆料不再重复利用，也必须先处理才可以排放)。而且，抛光浆料价格昂贵，如何对抛光浆料进行后处理，补充必要的化学添加剂，重复利用其中的有效成分，或降级使川，不仅可以减少环境污染，而且可以大大降低加工成本。抛光浆料的后处理研究将是未来的新研究热点。另外一方面，复合磨料抛光浆料的研究也将是未来的趋势之一，因为复合磨料抛光浆料在保持单一磨料抛光浆料优点同时也改善了其缺点，在国外已经出现了复合抛光磨料的研究报道，如A1203, Si02, CeO2各种单一抛光磨料互相通过包覆形成壳一核型的复合抛光磨料，集中各种单一抛光磨料的优点，从而配制出抛光效果更佳的新型复合抛光浆料。实验表明，在较软的磨料粒子外面包覆一层较硬的物质，可以在提高其抛光速率的同时领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

也保持了较高的选择性;而在较硬的磨料粒子外面包覆一层较软的物质，则可在保持其较高抛光速率的基础上改善其抛光表面质量。如Lu等成功地在球形SiO2粒子外面包覆一层Ce02，并以其作为磨料制备复合抛光浆料与Sio2和Ce02抛光浆料进行抛光实验的比较，研究表明，复合磨料具有更好的抛光效果。目前，CMP技术己经不局限于使用固体磨料，甚至出现了用气体来进行抛光的技术(如HVPE技术等)，为抛光浆料的发展开拓了新的思路。

近年来，CMP技术得到了长足的发展，涌现出了不少新技术，例如:固结磨料化学机械抛光技术、电化学机械平坦化技术、无磨料化学机械抛光技术、无应力抛光技术、接触平坦化技术和等离子辅助化学蚀刻平坦化技术等。

尽管CMP技术发展的速度很快，但目前对CMP技术的了解还处于定性的阶段，需要解决的理论及技术问题还很多。如人们对诸如抛光参数(如压力、转速、温度等)对平面度的影响、抛光垫一浆料一片子之间的相互作用、浆料化学性质(如组成、pH值、颗粒度等)对各种CMP参数的影响及其机理了解仍然甚少，因而定量确定最佳CMP工艺、系统地研究CMP工艺过程参数、建立完善的CMP理论模型、满足各种超大型集成电路生产对CMP工艺的不同要求，是研究CMP技术的重大课题。由于缺乏有效的在线终点检测技术，维持稳定的、一次通过性的生产运转过程还存在困难，因而迫切需要开发领升：抛光机 http://www.xiexiebang.com

实用的在线检测手段。一般在芯片工艺的最后几个阶段也需进行CMP加工，此时每个芯片的价值已达到数千至数十万美元，因而，芯片表面残留浆料的清除是CMP后清洗的主要课题。研制合适的CMP工艺、抛光设备及浆料以使去除速度高而稳定、片子的模内均匀性和片内均匀性都理想，且产生的表面缺陷少，是CMP技术发展的主要难题。4结语

综上所述，CMP技术可用于各种高性能和特殊用途的集成电路制造，且应用领域口益扩展，已成为最为重要的超精细表面全局平面化技术，也是国际竞争的关键技术，其增长势头和发展前景非常可观。深入研究和开发CMP技术，并形成拥有自主知识产权的材料和工艺，将促进我国IC产业的良性发展，提高我国在这一方面的国际地位，同时也将带来了巨大的经济和社会效益。

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第三篇：CMP广州团队策划书 (3000字)

cmp城市执行策划书

公司提供物资：帐篷两个，笔500，见面会那种带环的小变签本1000，dm宣传单600，空白海报35，海报150 路演组和线上宣传组可以考虑用一下。

一、活动目的

１、促进团队内部成员的交流与合作，激发团队成员的创意，实现自我的想法。２、宣传ｘ系列笔记本电脑同时扩大acm知名度。

二、活动流程

三、1.描述 活动内容 “我们都是小豆豆“形象大使选拔

四款产品分别叫小白豆、小黑豆、小粉豆和小茶豆分别选择一位形象大使（最后选

定的形象大使为在校学生），要求参加者展现出与产品特点相符的特质，在网络上上传个人的参赛照片并做说明和个人简介。

规则

最终由转发量决定谁当选（转发量占审核成绩的80%，剩余20%为内部人员的评分。成功当选形象大使的人得到奖品。（彩色雨伞、u盘）同时在当选者的支持者中随机抽取10位幸运粉丝，也可以获得我们提供的小奖品。（手机防尘塞）形象大使和幸运粉丝都会受邀在28号当天在路演现场领奖品，参与游戏，拍照留念。

（附一：已编辑好的微博内容）

时间表

2.荧光单车队

两大队的各小组分别集合，到指定学校进行梦幻般的宣传。大队九人，骑着带有风火轮的自行车（用荧光棒装饰），在衣服上可以用荧光颜料画出asus，校园团购节等，帅气一点吸引眼球即可！在晚上在下课时间段，在学校的主校道人多的地方穿梭进行环行宣传，同时边前行边用大喊口号。

人员分两个大队。（大学城队和五山队）具体线路待定。（大学城搞不搞取决于报名的人数）3.快闪

快闪分为一二三木头人、表白两部分。(1)一二三木头人

【活动时间】晚上八点（不一定要晚上咯，中午吃饭时间在饭堂附近弄也可以考虑）

【活动地点】大学城新天地及华师各一场

【针对对象】大学城学生，华师学生

【活动前期】

组织硕硕报名。两个扮超人。（穿得抢眼就好，不一定要超人）一个负责过程拍摄。

【活动流程】

两人身穿超人的衣服，不过衣服上的s改为华硕电脑的标志，然后表演各种卖萌动作，动作自由发挥。租个鼓，或者放一段有节奏的音乐，一个八拍一群人（可以由两个超人带领）一起跑，下一个八拍大家都定住不动，如此一走一停的重复，直到最后大家都冲到电脑面前，或者一个ｘ系列电脑的广告牌。（后续还需要完善，那到电脑干吗。）

【活动时间】下午5点

【活动地点】大学城新天地及华师各一场

【针对对象】大学城学生，华师学生

【活动前期】组织硕硕报名。20男一女

【活动流程】

出场人物：有各种装扮的20男青年，如西装革履的，穿着时尚的„..还有一位美女。事件：一位美少女在街头闲逛，突然周围齐聚很多个男青年，都跪在美女面前持玫瑰（或其他自治道具，这里要拿mic吧？）向她表白。男青年争先恐后地表达。女：我只选择用华硕x系列的男人！

一男：为什么不是用惠普，戴尔，技嘉·。？它们也能体现男人品质。

女：华硕品质，坚如磐石。用华硕x系列的男人靠得住!话毕，一男拿出了华硕x系列笔记本，抱得美人归。然后人员快速散去。4.人体彩绘（内容还在修改中）

人体彩绘用在前期宣传的派传单以及路演当天拉客，人体彩绘的角色会派发氢气球或者棒棒糖或者传单。

后又改为人体彩绘狂欢嘉年华

小胖：“这次cmp不是要crazy吗~~既然如此，我们就弄个人体彩绘狂欢~~ 在路演当天，我们可以让人自由发挥，只要在身上画油acm与asus的logo 就好了，然后我们就可以有多种形象，尺度可以任选（学赋必须大尺度、重口味），然后让他们帮路演的派传单„而且我们还可以吸引别人过来，也可以帮他们免费帮他们画人体彩绘，那时我们可以在他们身上画有acm与asus的logo，这样就可以达到宣传的目的。“ 5.路演摆摊

路演11月3日周六在华师。

路演摊位分区：（１）笔记本展示区

需要３－４台ｘ系列笔记本，最好为不同色系。

（２）游戏区（参考八大校区策划）

从八大校区策划中抽取两三个游戏，每完成一个游戏都会盖章。

（３）幸运大转盘（这个如果路演项目组觉得好的话就弄）

幸运大转盘设置：

大转盘分为12部分，奖品越大，所占面积越小。12部分为：谢谢参加、特制卡套、小笔记本、笔记本、皮制笔记本、电脑包、电脑桌、鼠标垫、电脑清洁套装、电脑散热器、迷你小音箱、特制杯子。

规则：

玩家集齐三个印章后就有机会参加抽奖一次。如果发微博并@华硕硕士生并@三个好友，即在多一次抽奖的机会。玩家在硕硕的“开始”音下，开始转动大转盘，待其自然停止。指针所指中的即为玩家所获得的礼物。

注：硕硕们要控制好玩家玩的次数，还要控制好礼物派放，如果所准备的礼物派完了，就不再进行大转盘抽奖。

四、时间进度安排（时间表我先给了个大概的，会根据各项目组的计划的再

作调整）

五、前期准备&经费预算（这份预算也不用看，只是给个大概概念，会按照

各组做新预算）

1.“我们都是小豆豆“形象大使选拔。

网络奖品+线下

2.荧光车队 3.快闪： 4.人体彩绘

5.路演摆摊

公司提供物资：帐篷两个，笔200见面会那种带环的小变签本600，dm宣传单600，空白海报35，海报150总计4000元

六、ｏｃ分工

（１）线上宣传（中大、暨大ｏｃｖｐ跟进）

谢淑怡 田千里 邓健 尹娜敏 刘宇星 邓嘉豪

（２）荧光单车队（五华ｏｃｖｐ跟进）

莫少科 罗材 胡阳 刘奕填

（３）快闪（大华、广工ｏｃｖｐ跟进）

赖俏荣 刘志 陈村妹 王颖欣 罗杨顺 蔡东旭

（４）人体彩绘（华农ｏｃｖｐ跟进）

黄永怡 郑勇平刘昭敏

（５）路演（华师ocvp跟进）

周绮丽 孙婉君

附一： 微博内容：

第二条：大赛规则如下：.四款产品分别叫小白豆、小黑豆、小粉豆和小茶豆，要求参加者尽量展现出与产品特点相符的特质，在网络上上传个人的参赛照片并做说明和个人简介。

最终由转发量决定谁当选，选出两位形象大使，成功当选形象大使的人可得到我们的丰厚奖品拍哦，同时我们会在当选者的支持者中以随机形式抽取幸运粉丝，也可以获得我们提供的可爱奖品！

第四篇：依托知识管理平台

依托知识管理平台,通过建立系统、完善、可行的知识管理流程,可以把分散的、被单个员工掌握的知识变为系统的、被整个企业所拥有的知识,最终把知识变成企业的竞争力。

知识管理:把知识变成企业的财富

本报特约撰稿 张娟

在现代这样一个知识经济快速发展的时代，企业要想持续保持竞争力，必须清楚地认识到知识是企业最宝贵的财产，而知识管理是企业在竞争中制胜的利器。以下情形在很多企业存在: 随着企业规模不断扩大，企业拥有的各种知识(信息、技巧、经验、总结)变得越来越分散和难于管理;掌握关键知识员工的流失给企业带来惊人的损失，使得企业的反应能力和创新能力受到严重限制。

知识管理系统的建立将有助于帮助企业解决上述问题。知识管理主要解决的问题有两类，一是培育和形成新知识不断产出的环境、机制和人;二是将已有的知识加以组织并不断创造新的价值。

落地的关键

关于知识管理，理论界大致可以分为技术学派、行为学派和综合学派三类。技术学派将知识管理侧重于对信息的管理;行为学派将知识管理重点放在对人的管理;综合学派则将二者结合起来，增强组织对环境的适应能力。笔者认为，知识管理的本质是渗透到战略管理中的一种管理理念和方法，即利用组织智力创造价值，强调对知识资产进行系统管理、有序配置，培养积累分享的环境和人，最终改进企业的创新能力、快速响应能力。知识管理有些类似 ITIL，它并不提供具体的实施方法，而是针对 IT部门内的流程结构、角色、职责提供一个指导框架。知识管理过程中包括的关键知识活动主要有: 知识的识别、创造、存储、分享、利用。知识管理体系就是围绕这些活动进行构建，知识管理的成功导入和实施就是以知识管理的理念为指导，结合企业的实际情况建立知识管理流程，灵活应用各种办法和工具有效地开展关键知识活动，实现知识管理的目标。那么，如何让知识管理更好地贯穿企业的整个流程并落实在员工日常工作中呢？笔者在实践中体会到以下几点至关重要: 1.将实施知识管理作为一个项目来开展，贯穿始终的项目管理是知识管理项目成功的保证。2.要保证知识管理项目的实施成功必须建立系统、完善、可行的知识管理流程，包括知识管理战略规划、知识管理体系规划、知识管理实施保障等。

3.知识管理项目的总负责人一定要处于公司的高层地位，这样才有可能协调各方资源，动员公司全员参与进来，推动知识管理项目的开展。

4.从易于建设、见效快、投入少的环节入手，获得公司各层支持。5.知识管理的实施重点在于领会和应用知识管理的理念和方法，而非追求系统和形式完备。6.知识管理应主动而自然地融入员工日常工作，而非增添负担和压力。战略的制定实施知识管理的第一步是制定知识管理的战略。为了做好这项工作，首先要分析企业导入知识管理的背景;其次，了解企业的定位、发展战略，形成知识管理的目标和战略。比如，笔者所在的公司的战略目标是以最高的效率、最低的成本为用户提供满意的 IT 应用 服务运营业务。为了保证在公司研发中心迅速扩张的情况下，仍然能建立起一支高效、规范的队伍支持公司业务发展，知识管理必不可少。鉴于此，我们制定了以下知识管理战略目标: 使知识管理平台成为管理层决策的得力助手、员工成长的亲密伙伴、公司知识资产的仓库。制定知识管理的战略只是第一步，更重要的是落实它，这就需要确定知识管理实施的具体策 略和短期规划。不同的企业知识管理实施策略不同，大致可以分为两种方式: ● 由下而上，以人为主导，以点带面逐步推广;● 由上而下，以企业信息化系统为主导，全面铺开。由于笔者所在的公司研发中心扩张很快，导致技术人员编制与业务发展脱节，公司各业务系 统的结构信息缺失，因此我们选取了第一种策略，即强化观念、小步快跑、以点带面、重在实效的实施策略。基于此确定了详细的短期规划，包括各阶段的任务、目标及完成时间。体系的规划知识管理体系是知识管理策略落到实处的保证。我们将知识管理体系分为知识的识别、创造、存储、分享、利用。1.识别知识

知识识别的主要工作是在了解知识需求的基础上，定义知识并进行知识分类。知识具有不同 的形式、内容、类型，所以定义知识并对知识分类不是一件容易的事。实际操作中，我们依据知识需求，借助知识地图工具并结合产品研发流程梳理知识体系定义知识，并分类。我们通过访谈和问卷调查等方式，初步了解到公司的知识需求包括: 共用技术、模板、规范 制度、经验教训、方法论、项目总结等。接下来，我们按照知识需求和知识识别一致的原则，将Case（案例）、开发工具、电子书、开发和管理文档、组件、代码素材作为公司积累的知识物件，同时制定各类知识物件的标准。另外，在公司专家的配合下，通过创建知识开发地图，梳理产品规划、立项、设计、开发、运营等各流程工作中所要求的重要知识，并归纳提取，将公司知识分为基础技术知识、专业技术知识、业务知识三大类。值得一提的是，知识分类是一个持续改进的过程，需要根据用户使用反馈的信息，总结经验，不断优化。2.创造知识

在识别知识后，我们必须能够生产知识、创造知识、实现知识的动态转化和循环。该环节的 主要工作是从内外部积极开展知识采集和挖掘。我们借助知识地图工具来盘点公司内现存知识及来源，确认散落在各部门的显性知识;同时，编制《知识管理平台信息维护管理办法》，确定生产这些知识的归口负责人;并制定知识贡献奖励办法，从物质和精神上鼓励员工分享他们的隐性知识。3.存储知识

存储知识的目的就是将知识固化、积累起来，建设企业的知识库。用于存储知识的工具主要 是知识管理平台。知识管理平台不仅能将知识存储，并且能够给所有的知识信息提供一个展现的平台。知识管理平台要能够提供知识采集、知识发布、知识搜索、知识维护、知识评估等功能。我们通过知识采集和发布，不断充实知识管理平台的知识库，并会定期分析存储的知识，形成更新的知识地图和知识汇总，并对以后知识的分布进行预测。存储的知识都是公司的财富，只有将存储的知识进行科学的分类，才能够更加快速地分享和利用知识。4.分享知识

存储积累的知识只有经过大量传播分享后才能产生价值。分享知识的主要工作是创造共享交流的平台和渠道，促进隐性知识和显性知识的相互转化。对于显性知识成果的推广，通过培训、知识推广会、学习机制等比较容易完成，而隐形知识的分享则要困难得多。由于一些隐形知识无法文档化，只能靠面对面的接触来共享，我们就创造了很多交流的渠道，比如利用网络社区组织个人知识管理的交流会很受员工欢迎。另外，由于很多人将隐形知识视为“私产”不愿分享，可以制定有利于公司共享知识的制度而且强制执行，比如新员工导师制度、知识积分奖励等，在制度的基础上形成愿意共享知识的文化，使分享知识成为员工的一种自我行为。5.利用知识

知识管理的目标是将积累的知识在需要的时候应用于实践，快速解决当前问题并创造出新的 知识，完成知识价值链的循环。我们主要通过知识管理平台上的 E-Learning 学习系统以及制定促进利用知识的管理制度来实现知识的充分利用。必要的后勤保障 1.建立知识管理团队

知识管理项目是一项系统性工程，企业需要建立独立的知识管理部门，从组织上保证知识管 理项目的有效执行和推进。笔者所在的公司组建了由公司副总领导的知识管理虚拟团队，实现了知识管理工作组和各部门兼职知识管理员的二级管理体系。知识管理工作组承担职能管理和项目管理的责任，兼职知识管理员由技术人员和行政人员组成，负责基层知识管理工作的宣传督促和具体实施。同时，建立了知识管理员月例会制度和培训制度，不断提高团队整体素质。

2.形成分享、学习、创新的知识型组织文化

由于有些员工将个人知识视为私产，吝于与他人分享，这样会使知识管理的实施变得困难。因此，如何建立一个让组织成员不排斥知识的分享、让知识管理与企业现存的文化相契合的企业文化，是知识管理项目成功的重要因素。我们主要通过培训和宣传来逐步培养，同时制定有利于共享知识的制度以及完善的学习机制来形成分享学习的文化。3.以知识管理平台为支撑

知识管理平台是知识管理成功实施的重要工具和保障。根据知识管理实施策略的不同，知识 管理平台的实现方式也有所不同。比如，采用自下而上的实施策略时，知识管理平台侧重交流共享，由全体员工互动共建，相对独立。以知识的积累、贡献、管理为主;采用自上而下的实施策略时，知识管理平台由业务流程驱动，与企业信息系统一起组成企业知识门户，可以实现企业内部各不同业务系统的流程管理、个人办公与实时协作，在此基础上实现对公司内部知识的管理，并将知识推送至相应的用户，同时通过数据挖掘技术，为企业的知识管理、技术管理、战略决策提供参考。不管哪种实现方式，知识管理平台都应具备知识发布、知识采集、知识搜索、知识发现、知识互动、知识挖掘、专家网络、在线学习等功能。4.建立知识管理制度

制度能够固化成果，作为规范化管理的重要环节，制定知识管理制度必不可少，特别是激励 制度，对于促进知识管理体系的循环进行尤为重要。知识管理制度的内容必须覆盖所有影响知识管理活动的关键因素。从实践来看，我们制定的知识管理制度对实现知识价值链动态化起到了关键作用，其中的激励机制极大地促进了隐形知识转化为显性知识。在制定激励制度时，需要注意:(1)公司的知识管理制度应当和企业文化结合起来，让所有员工都明白企业文化和知识管理 是密不可分的。

(2)奖励方式应多样化，既奖励奖金，又有知识贡献积分换礼品，还有精神激励，对于知识管理活跃分子要通过平台或内部邮件进行宣传。

(3)将知识管理绩效与部门、公司的绩效考核联系起来，这样才能发挥全员参与知识管理的 积极性。链接建立恰当的知识共享激励机制我们在知识管理的过程中曾制定了 CASE（案例）奖励办法并严格实施，在短时间内取得了不错的效果。但我们也听到了一些不同的声音。比如，做架构设计的员工反映，架构设计的很多CASE 无法用文字表达出来，所以数量上总也比不过那些容易出 CASE 的部门，如测试部，因而获得奖金的机会自然较少，积极性受挫。这些反馈提醒我们重新审视原以为很完善的激励机制。在知识管理初期阶段，员工的意识层次不齐，有些会非常乐意知识共享，他们觉得收获了更多的知识和成就感;也有人觉得是负担，既耽误时间又没啥好处。这种情况下，只有制定合理的激励机制才能促进大范围的知识共享。但在奖励时很容易犯这样的错误，即没能根据共享模式的不同而将激励多样化。激励机制主要在隐性知识到显性知识的外化过程中发挥作用。在这个过程中有些隐性知识容 易用文字固化下来，而有一些却难以文档化，只能靠面对面口传心授。相应地，组织中就会存在两种截然不同的知识共享模式。

第一种模式是员工个体之间在实际操作中的直接沟通。这种模式常见于一位员工向另一位员 工就如何完成某项具体工作提供建议。例如指导解决某些错误发生频率不规律的问题。这种模式的典型特点在于，知识的传递需要借助知识提供方和知识接收方之间的直接沟通，如可通过工作现场指导、会议、电话等方式。直接沟通模式给那些很难用文字表述的隐性知识或者非成文知识的传递提供可能性，并且能有效地提高工作质量。另一种知识共享的模式是通过书面文件实现。这种模式适用于那些可成文的知识类型，包括流程规范、项目总结等。特别能在项目执行中为组织节省宝贵的时间。根据提供 CASE 数量多少和 CASE 的应用效果进行奖励，这种模式考虑较多的是如何奖励

第二种模式，虽然推动了 CASE 库的短期建设，但这也引起部分员工的不满和抱怨。找到问题的症结所在，我们立即修改了奖励办法，增加了一项 CASE 活动积极参与奖，奖励那些 CASE 提交频率高，踊跃为同事做 CASE 讲解的员工。另外，我们尽力创建沟通交流渠道，并跟踪社区和论坛相应指标，挖掘活跃分子并经常邀请他们作为主讲人参加我们举办的活动，同时在组织内宣传他们的积极表现。后来的用户调查显示，员工的抱怨少了，积极性提高了。（文/张娟）

第五篇：平台使用管理规定

平台使用管理规定

一、平台租车原则

(一)公车要公用、公务要保障;

(二)厉行节约、集中管理、务实高效、监督问责;

(三)先约再用，不足部分社会化保障。

二、平台租车保障范围

平台租车保障范围为经济开发区参加车改并领取车改补贴的在职在编工作人员参加重要公务、机要应急公务和补贴区域外赴交通不便区域公务出行。

三、使用平台租车情形

符合下列条件之一即可申请平台租车公务出行：

1、因时间或公共交通条件等所限，无法及时参加县委、县人大、县政府、县政协组织的重要会议。

2、因时间或公共交通条件等所限，无法及时参加县领导临时召集的紧急会议。

3、县领导组织的调研视察活动。

4、执行重大抢险救灾、事故处理、突发事件处置等不可预测的紧急任务。

5、接待中央、省级、市级和外省(市、区)组织的来常重要公务活动。

6、重大招商引资活动。

7、参加外事活动。

8、跨部门联合督查、检查、考核等集体公务出行。

9、单位统一组织的全体或___人以上集体教育活动。

10、在社会化交通方式提供不足或成本过高的情况下，经县领导同意的集体基层调研、专项检查等公务出行。

11、运送机要文件和涉密载体。

12、干部职工上班期间因伤因病紧急送医等。

13、经单位主要领导批准的其他特殊情况用车。

四、平台租车审批流程

(一)单位内部审批流程

由相关科室填写《单位公务用车审批单》，报分管领导审核，由主要领导签字同意后，经办公室备案，由办公室指定专人与平台调度部门联系。

(二)各类情况具体审批流程

1、重要会议及大型活动。若本单位为主办单位或承办单位，由相关责任科室或办公室拟定交通单项费用预算和用车要求，填写《单位公务用车审批单》，并完成单位内部审批流程后，由办公室安排专人在公车信息管理平台填写《单位公务用车申请单》预约用车，报请平台调度部门拟定用车计划，用车计划报本单位主要领导审核同意后实施。若本单位为参与单位，由办公室与主办单位或承办单位对接后，如需自行安排车辆，由办公室按程序办理。

2、应急用车。如遇突发情况，由相关责任科室与办公室负责人联系后，由办公室安排专人与平台调度部门联系，并及时将平台调度部门信息反馈至相关人员，由办公室安排专人补办相关用车手续。

3、重要公务和交通补贴区域外用车。交通补贴区域内重要公务用车(随县领导参加的调研和接待)：由相关责任科室填写《单位公务用车审批单》，完成单位内部审批流程后，由办公室安排专人在公车信息管理平台填写《单位公务用车申请单》预约用车，并将平台调度部门信息反馈至用车人。交通补贴区域外公务用车：用车方法同上。

4、副厅级(含副厅)以上领导来常用车。根据实际工作需要，与县机关事务管理局对接后，若需本单位负责相关车辆安排，由办公室填写《单位公务用车审批单》，完成单位内部审批流程后，安排专人在公车信息管理平台填写《单位公务用车申请单》预约用车，并将平台调度部门信息反馈至用车人。

5、机要用车。根据实际工作需要，由相关责任科室提出要求，填写《单位公务用车审批单》，并完成单位内部审批流程后，由办公室安排专人在公车信息管理平台填写《单位公务用车申请单》预约用车，并将平台调度部门信息反馈至用车人。

五、工作要求

1、严守纪律、加强监督。开发区全体干部职工要严格按照公车改革有关规定，加强红线意识、纪律意识，不准以任何理由，违规在补贴区域内使用公务用车或用公款租用社会车辆从事普通公务活动，不准将公务用车用于上下班接送、参加私人聚会、婚丧嫁娶等非公务活动，或搭乘家属、亲友等非公务相关人员。第十七纪检组将不定期开展公车使用检查工作。

2、规范用车、合法合规。全体参改同志要严格遵守公车使用有关规定，不准在酒店、宾馆、娱乐场所、景区、居民小区等非定点停车场所停放非执行公务的公车，不准故意损坏卫星定位装置或遮挡、毁坏公务用车标识等逃避监督管理。

2、忠于岗位、全心全意。全体参改同志要以全心全意为民服务为宗旨，适应公车改革新常态，全力克服因公车改革所带来的不利影响，以饱满的热情投入到工作中，不准以

没有公务用车或公务交通补贴不足为由，消极怠工、延误工作。